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工業情報化部は国産 duv リソグラフィー装置 2 台を公に宣伝しています。最小オーバーレイ ≤8nm!露光機のコンセプト株が強いものが多い

2024-09-19

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9月9日、業界情報wechatニュースのwechat公開アカウントは、「主要技術機器の最初(セット)の普及と適用に関するガイダンスカタログ(2024年版)」を開示する記事を公開した。その中でも電子特殊機器の欄には、フッ化クリプトンリソグラフィー装置やフッ化アルゴンリソグラフィー装置はその中にあります。。このデータは次のことを示していますフッ化アルゴンリソグラフィー装置の解像度は 65 ナノメートル未満、オーバーレイ精度は 8 ナノメートル未満です

東興証券の調査レポートによると、露光装置は直接描画露光装置とマスク露光装置に分けられ、市場で主流となっているのはi-iine(水銀線)、krf(フッ化クリプトン)、arf(フッ化アルゴン)である。 )、arfi(浸潤型フッ化アルゴン)、euv(極紫外線)の5つのカテゴリー。

今回プロモーションカタログに採用されるフッ化アルゴン露光装置は乾式arf露光装置となります。特定の指標に関しては、asml の twinscan nxt: 1470 および twinscan xt: 1460k に似ています。

今年4月に国家市場監督管理総局など5部門が共同で発表した「中国初(設定)主要技術設備試験評価管理措置(試行)」によると、主要技術設備は国の重要な武器であり、総合的な国力と国家安全保障に関わる。中国初(セット)の主要技術設備とは、中国で大きな技術的進歩を達成し、知的財産権を所有しているが、まだ大きな市場パフォーマンスを達成していない設備製品を指します。、完全な機器、コアシステム、主要コンポーネントが含まれます。

国産露光機の強みは何ですか?

gongxin wechat が公開した記事によると、このガイダンスカタログは、主要な技術機器の最初の(セット)の革新的な開発、促進、応用を促進し、産業、財政、金融、科学技術などの国家支援政策の調整を強化することを目的としています。

具体的には、フッ化クリプトンリソグラフィー装置のウェーハ直径は 300mm (12 インチ)、照明波長は 110nm 以下、オーバーレイは 25nm です。

比較すると、asml のフッ化クリプトン リソグラフィー マシンのモデルには、twinscan nxt: 870、twinscan xt: 860n、twinscan xt: 860m があります。これら 3 つのモデルの波長は 248mm、分解能は 110nm 以下です。

ガイダンスカタログに掲載されている、より高度なフッ化アルゴンリソグラフィー装置の照明波長は 193mm です。解像度 ≤ 65nm; オーバーレイ ≤ 8nm

このデータは asml の twinscan xt: 1460k に最も近いです。このモデルの照明波長は193mm、解像度は≤65nmです。さらに、このシステムは、偏光照明下で 57nm という低い生産解像度を達成できます。

比較すると、asml 液浸リソグラフィー マシン twinscan nxt 1980fi の解像度は ≤38nm です。民生証券の調査レポートによると、このモデルはオーバーレイ精度 2.5nm (mmo) を達成できます。

asml公式ウェブサイトのデータを引用した東海証券によると、2023年の各種リソグラフィー装置の平均価格はeuv(1億7,386万ユーロ)、arfi(7,196万ユーロ)、arfdry(2,742万ユーロ)、krf(1,192万ユーロ)、i-イイネ(399万ユーロ)。

東海証券は次のように考えています。現在、露光装置の国産化率は2.5%に過ぎず、装置全体の技術は海外に大きく遅れをとっている。5年から10年の短期的には、90nmおよび28nmリソグラフィー装置の開発と量産に注力する一方で、国産半導体部品の開発に注力することが重要です。

リソグラフィー装置産業チェーンは早急に発展する必要がある

東海証券は、中国国際入札ネットワークの情報によると、半導体製造装置の入札において、エッチングや蒸着などの中核装置の国産化率が大幅に向上しており、関連する中国企業が技術的に徐々に海外に追い付いていると述べた。上海の会社ですが、光学機器は彫刻機です。定位率は3%未満その主な理由は、海外と比較して部品供給と完成機技術の間に大きなギャップがあることです。

9月18日、oriental fortuneコンセプトセクターの中で、フォトリソグラフィーマシン(接着剤)セクターが上位にランクされ、セクター全体の成長率は2.47%に達しました。このうち、東飛株と波長光電子はともに1日の上限「20センチ」を達成し、新来英才は12.40%上昇した。このほか、張江高科技、ハイリー・ホールディングス、ケメット・ガスなども連日ストップ高となった。

9月19日には、リソグラフィー装置のコンセプトが引き続き活発で、zhangjiang hi-tech、jinghua laser、sudavigeなどが続いた。

張江高科技が注目を集めているのは主に上海マイクロエレクトロニクス社への投資である。張江高科技は9月10日、投資家交流プラットフォーム上で、子会社の上海張江浩成ベンチャーキャピタル有限公司を通じて上海マイクロエレクトロニクス社に2億2300万元を投資し、上海マイクロエレクトロニクス社の株式の10.779%を保有したと発表した。その後保有を増やさなかったり、保有を減らしたりしない。

東興証券によると、国内企業の中で上海マイクロエレクトロニクスは現在、中国初で唯一の露光装置大手であり、同社の製品は主にarf、krf、i線分野で出荷台数が国内市場シェアの80%以上を占めている。すでに90nm以下のチップ製造能力を備えている。

フォトリソグラフィー装置部品に関して、tongfei co., ltd.は2023年中期報告書で、同社の液体恒温装置は主に半導体製造装置分野でフォトリソグラフィー装置、エッチング装置などの主要装置の温度制御に使用されていると述べています。 、研削および研磨機。

しかし、東興証券の調査レポートによると、リソグラフィー装置のコアコンポーネントには、光源システム、デュアルワークテーブル、対物レンズシステム、アライメントシステム、露光システム、液浸システム、回折格子システムなどが含まれます。サポート設備には、フォトレジスト、マスク、接着剤の開発などが含まれます。

華金証券によると、光源システムに関しては、準レーザー光源については、keyi honyuan が主に 248nm エキシマレーザー、乾式 193nm エキシマレーザーなどを開発し、fujing technology が kbbf 結晶を開発している。

東興証券によると、波長オプトエレクトロニクスは現在、中国におけるレーザー光学部品の主要サプライヤーであり、同社が開発したリソグラフィー装置用の大口径光学レンズを提供する能力を持っている。国内のリソグラフィー分野のサポートに使用されます。

ウェーブレングス・オプトエレクトロニクスはまた、2023年9月15日に投資家活動記録を公開し、同社が主に半導体分野の2つの分野に携わっていると述べた。1つは生産分野、すなわち露光機とフォトリソグラフィーであり、同社は大口径の光学レンズを提供できる。同社は、検出、反射、投影用の平行光源システムも提供でき、もう 1 つは検出分野で、光学コンポーネントと検出装置用コンポーネントを提供し、顧客向けにサブシステムの開発と設置をカスタマイズすることもできます。

対物レンズシステムに関しては、東興証券は茂来光リソグラフィー機露光対物レンズの超精密光学部品加工技術が工業化されたと述べた。

東海証券の調査レポートによると、中国は2023年に最大225台のリソグラフィー装置を輸入し、輸入額は87億5,400万米ドルに達する予定の輸入額は過去最高を記録しており、3~5年後には我が国の露光装置は主に輸入に頼ることになると予想されている。最先端のフォトリソグラフィー装置には 10 万点もの部品があり、我が国の半導体部品の国産化率は非常に低いですが、関連する国有企業はさまざまな分野で発展していますが、海外企業との格差も依然として大きいです。国内のコンポーネント企業にはより大きな開発機会があることを示しています。

免責事項: この記事の内容とデータは参照のみを目的としており、投資アドバイスを構成するものではありません。ご使用前に必ずご確認ください。ご自身の責任でそれに応じて操作してください。

レポーター|朱成祥

編集|||孫志成 梁暁 デュボワ

校正|ヘ・シャオタオ

表紙画像はvisual chinaより(画像と本文は関係ありません)

|日刊経済ニュース nbdニュース 元記事|

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