nuntium

pridie kalendas octobres, wechat rei publicae industry information wechat news emisit articulum detegens "guidance catalogue promotionis et applicationis primi (set) maioris technical equipment (2024 edition)". inter quas, in columna speciali instrumenti electronic;krypton fluoride apparatus lithographiae et argonis fluoride apparatus lithographiae inter eos sunt. haec notitia ostendit quodargon fluoride machinula lithographia resolutionem minoris quam 65 nanometris habet et obaurationem accurationem minorum quam 8 nanometers.。

secundum relationem investigationis per securitates dongxing, machinae lithographiae in directum-scribere possunt machinis lithographiae et machinis lithographia larva. et arfi.

argon fluoride apparatus lithographiae in catalogo promotionis delecto hoc tempore debet esse machina lithographia arida arf. in indicibus specificis, simile est cum twinscan asml nxt: 1470 et twinscan xt: 1460k.

secundum "sinae primum (set) maioris technical equipment testis et assessio management mensurae (trial)" communiter edita a quinque dicasteriis inter quas civitatis administrationis fori ordinatione mense aprili hoc anno, maior technicae instrumenti magni momenti arma reipublicae est et est. ad comprehensive nationalibus viribus et securitate nationali.sinarum primus (paro) maior armorum technicorum significat apparatum productorum, qui maiores technologicos breakthroughs in sinis consecuti sunt, iura possessionum intellectualium possident et nondum significantes mercatus effectus sunt., comprehendo apparatum integrum, systemata nucleum et clavium componentes.

secundum articulum a gongxin wechat editum,haec moderatio catalogum promovere est progressionem porttitor, promotionem et applicationem primi instrumenti technici maioris, et coordinationem subsidii nationalis consiliis roborare sicut industria, rebus oeconomicis, scientia et arte technicis.。

speciatim diametri lagani machinae lithographiae krypton fluoride est 300mm (12 pollices);

prae, exemplaria apparatus asml krypton fluoride lithographia includunt twinscan nxt: 870, twinscan xt: 860n et twinscan xt: 860m. necesse horum trium exemplorum est 248mm; resolutio est ≤110nm.

provectior argon apparatus lithographiae fluoride in catalogo ducendo illuminationem necem 193mm habet.resolutio ≤ 65nm;。

haec notitia proxima est asml's twinscan xt: 1460k. illuminatio aequalitatis huius exemplaris est 193mm, et resolutio ≤65nm est. accedit, ratio potest consequi conclusiones producendas tam parvam quam 57nm sub illuminatione polarizata.

prae, asml immersio lithographiae machinae twinscan nxt 1980fi resolutionem ≤38nm habet. secundum investigationis relationem minsheng securities, hoc exemplar accurationem obducere 2.5nm (mmo) consequi potest.

secundum securitates donghai citantes asml officialis notae, media pretia variarum machinarum lithographiae in 2023 sunt euv (173.86 decies centena nummi), arfi (71.96 decies centena nummi), arfdry (27.42 decies centena nummi), krf (11.92 decies centena nummi), i- iine (3.99 decies centena millia nummi).

donghai securitates credit esse;in praesenti, localisatio machinarum lithographiae tantum est 2.5%, et technica totius machinae longe post terras transmarinas.in brevi termino 5 ad 10 annos, cruciatus est evolutioni et molis productionis 90nm et 28nm machinis lithographiae intendere, ex altera parte, et ex altera parte, progressionem partium semiconductorum domesticarum intendere.

donghai securitates dixit secundum informationes de sinis internationalis tendering network, in instrumento semiconductoris iussus, localizationem ratam nuclei instrumenti sicut etching et depositionis valde emendatum est societates in shanghai;quod localization rate est minus quam iii%summa ratio est quia magnum intervallum est inter copiam componentium et technologiam plenariam cum transmarinis comparatis.

die 18 septembris, apud orientales fortunae partes conceptae, apparatus photolithographiae (glue) sector altus praesignavit, cum incrementi altioris sectoris 2.47% attingit. inter eos, tongfei communes necem optoelectronics et "20 cm" cotidie modum consecutus est; praeter, zhangjiang hi-tech, multum holdings, kemet gas, etc etiam resurrexit a cotidie terminus.

mense septembri, conceptus machinis lithographiae perstitit ad esse activam. kemet gas et multum technologiae tam cotidiano termino pervenerunt.

zhangjiang hi-tech advertit maxime quia collocavit in shanghai microelectronics company. zhangjiang hi-tech affirmavit in investor commutationis suggestum die 10 septembris quod societas ccxxiii decies centena milia yuan in shanghai microelectronics societati collocavit per suum subsidiarium shanghai zhangjiang haocheng venture capital co, ltd, tenuit 10.779% aequitatis shanghai microelectronics postea non auxit possessiones vel tenementa sua reducere.

securitates dongxing dixit inter societates domesticas, shanghai microelectronics nunc primum et solum machinae lithographiae gigantis in sinis, cum portarentur plus quam 80% de communitate mercatus domesticus. iam 90nm et infra in capaces fabricandi facultatem habet.

in terminis machinae partes photolithographiae, tongfei co., ltd. affirmavit in suo 2023 medio termino nuntiare liquidum eius constantem apparatum temperatum maxime adhibitum esse in campo semiconductoris instrumenti fabricandi ad temperaturam instrumentorum clavium, sicut machinis photolithographiae, machinarum etching ac stridor ac machinis expolitio.

autem, secundum investigationis securitates dongxing famam, nucleum apparatus lithographiae componentes systematis lucis includunt, dualis factibilis, ratio lens obiectiva, ratio alignment, ratio expositionis, ratio immersio, ratio craticulae, etc. facultates fovendi sunt photoresistae, larvae, evolutionis gluten, etc.

secundum systemata lucis fontium, secundum huajin securitates, pro quasi-laser luminis fontibus, keyi hongyuan maxime educitur 248nm lasers excimer, 193nm excimer lasers arida, etc.;

secundum securitates dongxing, necem optoelectronics principale supplementum laser tium opticorum in sinis est ad lithographiam domesticam adhiberi.

necem optoelectronics etiam investitor activitatem die 15 septembris 2023 detexit, asserens societatem maxime implicari in duobus campis in campo semiconductoris: unum campum productionis, scilicet machinarum expositionem et photolithographiam pro detectione, reflexione et proiectione, ac etiam parallelae lucis principium systemata praebere; altera est campus deprehensio.

secundum lens obiectivum systematis, dongxing securitates dixit processui technologiae opticae componentis ultra-praecisionis maolai machinae lithographiae opticae detectionis lens obiectivae industriae factae sunt.

secundum investigationis relationem de donghai securitates,sinae importabunt quotquot machinis 225 lithographiae anno 2023, cum magni pretii us$8,754 sescenti, summa copia summam tabulam attingit et expectatur machinis lithographiae patriae meae maxime in importationibus in 3 ad 5 annos niti. machina photolithographia provecta tot habet quot 100,000 partes. super, localizationis rate partium semiconductoris patriae meae valde humilis est. quamvis res publica-possessores variis vestigiis enucleantur, adhuc inter partes transmarinas interstitium est indicat societates componentes domesticas maiorem evolutionis opportunitatem habere.

disclaimer: contenta et notitia in hoc articulo solum referentia sunt et consilium investment non constituunt. age igitur periculo tuo.

nuntius|zhu chengxiang

edit|||sol zhicheng liang xiao dubois

proofreading|ille xiaotao

cover image from visual china (image and text have nothing to do with it)

quotidie economic news nbdnews originale articulum

reprinting, excerpendi, exscribendi et exprimendi sine licentia prohibetur.

cotidie oeconomicae nuntium