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das ministerium für industrie und informationstechnologie wirbt öffentlich für zwei inländische duv-lithographiemaschinen! mindestüberlagerung ≤8nm! viele aktien von fotolithografie-maschinenkonzepten sind stark

2024-09-19

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am 9. september veröffentlichte der öffentliche wechat-account der industry information wechat news einen artikel, in dem der „leitkatalog für die förderung und anwendung des ersten (sets) wichtiger technischer geräte (ausgabe 2024)“ veröffentlicht wurde. darunter, in der rubrik elektronische spezialgeräte,dazu gehören kryptonfluorid-lithographiemaschinen und argonfluorid-lithographiemaschinen. diese daten zeigen dasdas argonfluorid-lithographiegerät hat eine auflösung von weniger als 65 nanometern und eine überlagerungsgenauigkeit von weniger als 8 nanometern

laut einem forschungsbericht von dongxing securities können lithografiemaschinen in direktschreib-lithografiemaschinen und maskenlithografiemaschinen unterteilt werden. die gängigsten auf dem markt sind i-iine (quecksilberdraht), krf (kryptonfluorid) und arf (argonfluorid). ) und arfi (infiltrierendes argonfluorid), euv (extremes ultraviolett) fünf kategorien.

das im aktionskatalog ausgewählte argonfluorid-lithographiegerät sollte dieses mal ein trockenes arf-lithographiegerät sein. in bezug auf spezifische indikatoren ähnelt es asmls twinscan nxt: 1470 und twinscan xt: 1460k.

laut dem „china's first (set) major technical equipment testing and assessment management measures (trial)“, das im april dieses jahres gemeinsam von fünf ministerien, darunter der staatlichen verwaltung für marktregulierung, herausgegeben wurde, sind wichtige technische geräte eine wichtige waffe des landes und werden es auch im zusammenhang mit umfassender nationaler stärke und nationaler sicherheit.chinas erste (eingestellte) große technische ausrüstung bezieht sich auf ausrüstungsprodukte, die in china große technologische durchbrüche erzielt haben, geistige eigentumsrechte besitzen und noch keine nennenswerte marktleistung erzielt haben., einschließlich kompletter ausrüstung, kernsysteme und schlüsselkomponenten.

was ist die stärke heimischer lithografiemaschinen?

laut einem von gongxin wechat veröffentlichten artikel:dieser leitlinienkatalog soll die innovative entwicklung, förderung und anwendung des ersten (satz) wichtiger technischer geräte fördern und die koordinierung nationaler unterstützungspolitiken wie industrie, finanzen, finanzen sowie wissenschaft und technologie stärken.

konkret beträgt der waferdurchmesser des kryptonfluorid-lithographiegeräts 300 mm (12 zoll); die beleuchtungswellenlänge beträgt ≤110 nm und die überlagerung beträgt ≤25 nm;

im vergleich dazu umfassen die kryptonfluorid-lithographiemaschinenmodelle von asml twinscan nxt: 870, twinscan xt: 860n und twinscan xt: 860m. die wellenlänge dieser drei modelle beträgt 248 mm; die auflösung beträgt ≤110 nm.

das fortschrittlichere argonfluorid-lithographiegerät im leitfadenkatalog hat eine beleuchtungswellenlänge von 193 mm.auflösung ≤ 65 nm; überlagerung ≤ 8 nm

diese daten kommen dem twinscan xt von asml am nächsten: 1460k. die beleuchtungswellenlänge dieses modells beträgt 193 mm und die auflösung beträgt ≤65 nm. darüber hinaus kann das system bei polarisierter beleuchtung produktionsauflösungen von nur 57 nm erreichen.

im vergleich dazu hat die asml-immersionslithographiemaschine twinscan nxt 1980fi eine auflösung von ≤38 nm. laut einem forschungsbericht von minsheng securities kann dieses modell eine overlay-genauigkeit von 2,5 nm (mmo) erreichen.

laut donghai securities unter berufung auf daten der offiziellen asml-website liegen die durchschnittspreise verschiedener arten von lithografiemaschinen im jahr 2023 bei euv (173,86 millionen euro), arfi (71,96 millionen euro), arfdry (27,42 millionen euro), krf (11,92 millionen euro). i-iine (3,99 millionen euro).

donghai securities ist davon überzeugt, dassderzeit beträgt die lokalisierungsrate von fotolithografiemaschinen nur 2,5 %, und die technologie der gesamten maschine liegt weit hinter der in überseeländern zurück.kurzfristig von 5 bis 10 jahren ist es entscheidend, sich einerseits auf die entwicklung und massenproduktion von 90-nm- und 28-nm-lithographiemaschinen und andererseits auf die entwicklung heimischer halbleiterkomponenten zu konzentrieren.

die industriekette für lithographiemaschinen muss dringend weiterentwickelt werden

donghai securities sagte, dass nach angaben des china international tendering network bei ausschreibungen für halbleiterausrüstung die lokalisierungsrate von kernausrüstung wie ätzen und abscheiden erheblich verbessert wurde. der kern liegt darin, dass relevante chinesische unternehmen technisch gesehen allmählich zu übersee aufgeschlossen haben unternehmen in shanghai; aber optische als kernausrüstung ist die graviermaschinedie lokalisierungsrate beträgt weniger als 3 %der hauptgrund dafür ist, dass im vergleich zu übersee eine große lücke zwischen komponentenversorgung und kompletter maschinentechnologie besteht.

unter den konzeptsektoren von oriental fortune belegte am 18. september der sektor fotolithografiemaschinen (kleber) einen spitzenplatz, wobei das gesamtwachstum des sektors 2,47 % erreichte. unter ihnen erreichten tongfei shares und wavelength optoelectronics beide das tageslimit von „20 cm“; darüber hinaus stiegen auch zhangjiang hi-tech, highly holdings, kemet gas usw. um das tageslimit.

am 19. september waren kemet gas und highly technology weiterhin aktiv und verzeichneten einen zuwachs von mehr als 6 %.

zhangjiang hi-tech hat vor allem durch die investition in die shanghai microelectronics company aufmerksamkeit erregt. zhangjiang hi-tech gab am 10. september auf der investorenbörse bekannt, dass das unternehmen über seine tochtergesellschaft shanghai zhangjiang haocheng venture capital co., ltd. 223 millionen yuan in die shanghai microelectronics company investiert hat und 10,779 % des eigenkapitals von shanghai microelectronics hält seine beteiligungen nachträglich nicht erhöht oder reduziert hat.

dongxing securities sagte, dass shanghai microelectronics unter den inländischen unternehmen derzeit der erste und einzige lithografiemaschinenriese in china sei, dessen lieferungen mehr als 80 % des inländischen marktanteils ausmachen. seine produkte umfassen hauptsächlich die bereiche arf, krf und i-line . es verfügt bereits über chip-fertigungsmöglichkeiten von 90 nm und darunter.

in bezug auf teile von fotolithografiemaschinen gab tongfei co., ltd. in seinem halbzeitbericht 2023 an, dass seine flüssigkeits-konstanttemperaturausrüstung hauptsächlich im bereich der halbleiterfertigungsausrüstung zur temperaturkontrolle von schlüsselgeräten wie fotolithografiemaschinen und ätzmaschinen eingesetzt wird sowie schleif- und poliermaschinen.

laut einem forschungsbericht von dongxing securities umfassen die kernkomponenten der lithographiemaschine jedoch ein lichtquellensystem, einen doppelarbeitstisch, ein objektivlinsensystem, ein ausrichtungssystem, ein belichtungssystem, ein immersionssystem, ein gittersystem usw. zu den unterstützenden einrichtungen gehören fotolack, maske, klebstoffentwicklung usw.

in bezug auf lichtquellensysteme entwickelt keyi hongyuan laut huajin securities hauptsächlich 248-nm-excimerlaser, trockene 193-nm-excimerlaser usw.; fujing technology entwickelt kbbf-kristalle.

laut dongxing securities ist wavelength optoelectronics der hauptlieferant von laseroptischen komponenten in china. derzeit ist das unternehmen in der lage, optische linsen mit großer apertur für lithografiemaschinen bereitzustellen für die heimische lithographie eingesetzt werden.

wavelength optoelectronics veröffentlichte am 15. september 2023 außerdem eine aufzeichnung der investorenaktivität, aus der hervorgeht, dass das unternehmen hauptsächlich in zwei bereichen im halbleiterbereich tätig ist: der eine ist der produktionsbereich, nämlich belichtungsmaschinen und fotolithographie. das unternehmen kann optische linsen mit großem durchmesser anbieten zum anderen kann das unternehmen optische komponenten und komponenten für detektionsgeräte bereitstellen und auch die entwicklung und installation von subsystemen für kunden anpassen.

in bezug auf das objektivlinsensystem sagte dongxing securities, dass die hochpräzise verarbeitungstechnologie für optische komponenten der maolai-objektivlinse für die optische lithographiemaschine industrialisiert wurde.

laut dem forschungsbericht von donghai securities,china wird im jahr 2023 bis zu 225 lithografiemaschinen mit einem importwert von 8,754 milliarden us-dollar importierendie importmenge hat ein rekordhoch erreicht und es wird erwartet, dass die lithografiemaschinen meines landes in drei bis fünf jahren hauptsächlich auf importe angewiesen sein werden. eine fortschrittliche fotolithographiemaschine besteht aus bis zu 100.000 teilen. insgesamt ist die lokalisierungsrate der halbleiterkomponenten in meinem land sehr gering. obwohl sich relevante staatliche unternehmen in verschiedenen richtungen entwickeln, gibt es immer noch eine große lücke weist darauf hin, dass inländische zulieferunternehmen größere entwicklungschancen haben.

haftungsausschluss: der inhalt und die daten in diesem artikel dienen nur als referenz und stellen keine anlageberatung dar. bitte überprüfen sie ihn vor der verwendung. handeln sie entsprechend auf eigenes risiko.

reporter|zhu chengxiang

bearbeiten|||sun zhicheng liang xiao dubois

korrekturlesen|er xiaotao

titelbild von visual china (bild und text haben damit nichts zu tun)

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