समाचारं

"केचुआंगबन दैनिक" सितम्बर ३ समाचार कोरियादेशस्य मीडिया theelec इत्यस्य अनुसारं सैमसंगः टोक्यो इलेक्ट्रॉनिक्स (tel) इत्यनेन प्रदत्तस्य गैस क्लस्टर बीम् (gcb) उपकरणस्य परीक्षणं कुर्वन् अस्ति यत् स्वस्य चरम पराबैंगनी (euv) लिथोग्राफी प्रक्रियायां सुधारं कर्तुं शक्नोति। टोक्यो इलेक्ट्रॉनिक्स इत्यनेन पुष्टिः कृता यत् कम्पनी ग्राहकैः सह उपकरणस्य कार्यप्रदर्शनस्य मूल्याङ्कनं कृत्वा वेफर फाउण्ड्रीषु तस्य उपयोगः करणीयः वा इति निर्णयं कुर्वती अस्ति।

सार्वजनिकसूचनाः दर्शयति यत् टोक्यो इलेक्ट्रॉनिक्सः अर्धचालकनिर्माणसाधनानाम् प्रमुखः आपूर्तिकर्ता अस्ति, यः मुख्यतया अर्धचालकानाम् एचिंग्, अवक्षेपणं, सफाई च कर्तुं प्रवृत्तः अस्ति ।

परीक्षणे मूल्याङ्कने च समाविष्टस्य उपकरणस्य नाम एकरेविया इति अस्ति, यत् अस्मिन् वर्षे जुलैमासे प्रारब्धम् आसीत्, एतत् इष्टतमवेफर-झुकावस्थायां एच्-करणाय दिशात्मक-गैस-समूह-पुञ्जस्य उपयोगं करोति, येन ईयूवी-लिथोग्राफी-प्रतिमानानाम् महत्त्वपूर्ण-आकारस्य, आकारस्य च सटीक-समायोजनं भवति .

एतेन न केवलं प्रकाशशिलालेखनप्रतिमानानाम् सटीकतायां सुधारः भवति, अपितु वेफरपृष्ठक्षतिः अपि महत्त्वपूर्णतया न्यूनीकरोति । टोक्यो इलेक्ट्रॉनिक्स इत्यनेन उक्तं यत्, एतत् यन्त्रं प्रतिरूपस्य धारस्य रूक्षतां सुधारयितुम्, यादृच्छिकं प्रकाशशिलालेखनदोषान् न्यूनीकर्तुं च शक्नोति, तस्मात् उपजं सुदृढं कर्तुं शक्नोति

सैमसंगः तत् अपेक्षतेजीसीबी-उपकरणानाम् उपयोगेन उन्नत-नोड्-व्ययस्य न्यूनीकरणे सहायता भविष्यति. वस्तुतः एकदा जीसीबी-उपकरणेन वेफर-उत्पादने सुधारः कृतः चेत्, तत् लिथोग्राफी-उपकरणानाम् अमान्य-उपयोगानाम् संख्यां न्यूनीकर्तुं शक्नोति, तस्मात् उपकरणस्य सेवा-जीवनं विस्तारयितुं साहाय्यं करोति सैमसंग इत्यनेन अपि एतत् बोधितं यत् एतेन euv लिथोग्राफी प्रौद्योगिक्याः प्रतिरूपप्रक्रियाप्रक्रियायां यादृच्छिकदोषाः न्यूनीभवन्ति ।

अन्तिमेषु वर्षेषु प्रक्रियाप्रौद्योगिक्याः निरन्तरविकासेन सह ईयूवी-लिथोग्राफी-उपकरणं सर्वेषां वेफर-फाउण्ड्री-संस्थानां कृते अनिवार्यं जातम्, तदनन्तरं उच्च-व्यय-भारः अपि अभवत् अस्मिन् वर्षे मेमासे tsmc इत्यस्य वरिष्ठोपाध्यक्षः zhang xiaoqiang इत्यनेन asml इत्यस्य नवीनतमस्य उच्च संख्यात्मकस्य एपर्चरस्य चरम पराबैंगनीशिलालेखनयन्त्रस्य विषये तकनीकीगोष्ठीयां शिकायत: “मूल्यं बहु अधिकम् अस्ति” इति

अधिकं दुर्गतिम् अकुर्वन्, चिप्-डिजाइन-संकोचनं निरन्तरं कर्तुं चिप्-निर्मातारः प्रायः बहु-प्रतिरूपण-लिथोग्राफी-प्रौद्योगिक्याः उपयोगं कुर्वन्ति, यत् जटिल-एक-स्तरीय-प्रतिरूपं बहु-सरल-प्रतिरूपेषु विभज्य, अन्तिम-प्राप्त्यर्थं भिन्न-भिन्न-मास्क-उपरि बहुविध-एक्सपोजरं कृत्वा कार्यं करोति इष्टं प्रतिरूपम् ।

समस्याः उत्पद्यन्ते यद्यपि बहु-प्रतिरूपणस्य बृहत्-परिमाणेन अनुप्रयोगः डिजाइनं संकुचति, तथापि संरेखण-समस्याः, स्तम्भ-दोषाः इत्यादीनां तकनीकीदोषाणां जोखिमः अपि प्रवर्तते, तदतिरिक्तं बहु-प्रतिरूपणस्य बहुविध-उद्घाटनस्य, एचिंग्-चक्रस्य च आवश्यकता भवति, येन... निर्माणप्रक्रिया, तथा च प्रत्येकं अतिरिक्तं प्रकाशनं अतिरिक्तमास्कानाम् अधिकशिलालेखनसाधनानाञ्च आवश्यकता भवति । संक्षेपेण .चिप्सस्य उपजः, उत्पादनक्षमता च न्यूना न्यूना भवति, तस्य व्ययः अपि अधिकः भवति。

उपर्युक्तपृष्ठभूमितः विभिन्नैः अर्धचालकसाधननिर्मातृभिः व्ययस्य न्यूनीकरणस्य दक्षतासुधारस्य च तरङ्गः प्रक्षेपितः अस्ति, टोक्यो इलेक्ट्रॉन् इत्यस्य एकरेविया जीसीबी उपकरणस्य अतिरिक्तं एप्लाइड् मटेरियल्स् इत्यनेन गतवर्षस्य फरवरीमासे समानकार्ययुक्तं सेन्चुरा स्कुलप्टा प्रणालीं प्रारब्धवती, इन्टेल् कार्पोरेशन इत्यस्मै च आपूर्तिः कृता .

तत्कालीन रिपोर्ट्-अनुसारं, एषा प्रणाली चिप्-निर्मातृभ्यः निम्नलिखित-व्ययस्य रक्षणं कर्तुं शक्नोति: 1) प्रतिमासं एकलक्ष-वेफर-उत्पादनेन प्रायः 250 मिलियन-अमेरिकीय-डॉलर्-रूप्यकाणां रक्षणं कर्तुं शक्नोति;2) प्रति-वेफर-निर्माण-व्ययस्य 50 अमेरिकी-डॉलर्-रूप्यकाणां रक्षणं कर्तुं शक्नोति प्रत्येकं वेफरं १५ किलोवाट् घण्टाभ्यः अधिकं ऊर्जायाः रक्षणं करोति ।

तदतिरिक्तं अस्मिन् वर्षे फरवरीमासे एप्लाइड् मटेरियल्स् इत्यनेन ईयूवी तथा उदयमान उच्च-एनए ईयूवी लिथोग्राफी प्रौद्योगिक्याः उपयोगेन अर्धचालकयन्त्राणां महत्त्वपूर्णपरिमाणानां सटीकमापनार्थं विशेषरूपेण डिजाइनं कृतं नूतनं इलेक्ट्रॉनबीममापनसाधनमपि प्रारब्धम्

टोक्यो इलेक्ट्रॉनिक्सस्य जीसीबी उपकरणस्य परीक्षणमूल्यांकने प्रवेशस्य विषये कोरियादेशस्य मीडिया टिप्पणीं कृतवती यत् "ईयूवी पैटर्निंग् मार्केट् एप्लाइड् मटेरियल्स् इत्यस्य वर्चस्वं वर्तते, टोक्यो इलेक्ट्रॉनिक्स इत्यस्य नूतनानि उपकरणानि च तस्य कृते एकं चुनौतीं जनयन्ति।