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un fenómeno reciente me hizo pensar profundamente y me horrorizó.

primero, cuando estaba revisando mi cuenta de video anteayer, wechat me envió un video corto sobre máquinas de litografía. el propietario de esta cuenta de video es una tía y la edad combinada de la pareja es de más de 110 años. el contenido de la cuenta de video trata principalmente sobre recorridos sin conductor en varios lugares de la wenjie m9.una tía jubilada que tenía más de cincuenta años de repente utilizó un catálogo minimalista del ministerio de industria y tecnología de la información para hablar sobre las máquinas de litografía. estaba tan emocionada que afirmó tener lágrimas en los ojos.

¿por qué la cuenta de video me empuja a una tía jubilada autónoma a enseñarme sobre las máquinas de litografía?

más tarde, varios amigos de wechat en wechat me enviaron un formulario anoche y me preguntaron qué pensaba de las máquinas de litografía domésticas.

finalmente, hoy, un grupo de personas envió varios artículos sobre máquinas de litografía en wechat moments.

los libros de texto de historia y diversos medios de propaganda de la clase dominante afirman: "el pueblo es el creador de la historia". si debemos asegurar la exactitud de esta afirmación, sólo podemos decir que se trata de un deseo más que de un hecho.

una fuerza invisible está utilizando medios tecnológicos modernos para influir en los pensamientos del grupo.para un individuo racional, ¿cómo no dejarnos influenciar? la dificultad va en aumento y requiere más pensamiento independiente y capacidad lógica que antes. pero la mala realidad es que en los medios de comunicación chinos simplificados, no importa cuán racional sea un individuo, todavía se encuentra en la incómoda posición de ser alimentado pasivamente. incluso si estos materiales son hechos, son hechos selectivos más que hechos integrales.

que una opinión sea correcta o no no tiene nada que ver con el número de personas que la sostienen.renunciar al juicio y buscar la verdad es lo que debes hacer.

con respecto a esto, la cuenta pública de wechat del ministerio de industria y tecnología de la información, "industry information weibao", publicó la primera versión del "catálogo de orientación para la promoción y aplicación del primer (conjunto) de equipos técnicos importantes (edición 2024)" el 9 de septiembre. los contenidos específicos son los siguientes:

los departamentos industriales y de tecnología de la información de todas las provincias, regiones autónomas, municipios directamente dependientes del gobierno central, ciudades sujetas a una planificación estatal independiente y el cuerpo de producción y construcción de xinjiang, y las empresas centrales pertinentes:

con el fin de promover el desarrollo innovador, la promoción y la aplicación del primer (conjunto) de equipos técnicos importantes y fortalecer la coordinación de las políticas nacionales de apoyo como la industria, las finanzas, las finanzas, la ciencia y la tecnología, el "catálogo de orientación para la promoción y aplicación de el primer (conjunto) equipo técnico importante (edición 2024)" 》se le entregó, realice el trabajo correspondiente en consecuencia.

ministerio de industria y tecnología de la información

2 de septiembre de 2024

este es un catálogo muy largo. hay 13 catálogos de primer nivel que incluyen equipos electrónicos especiales, docenas de catálogos de segundo nivel que incluyen equipos de circuitos integrados y catálogos de tercer nivel que incluyen máquinas de litografía con fluoruro de argón. , como se muestra en la siguiente figura:

colocado en cientos de dispositivos sin especial énfasis,es difícil decir que se trata de una categoría muy destacada digna de "clamar".ser publicitado por varios medios de comunicación no es casualidad.hay una mano enorme escondida detrás de él y sus intenciones pueden no ser amables.。

fuera de unautomedios tecnológicos adheridos a los valores de “seriedad, objetividad e integridad”, creo que deberíahaz algo valioso para la sociedad.cosa.

en primer lugar, la fórmula química del fluoruro de argón es arf. arf es una fuente láser que se utiliza para generar luz láser con una longitud de onda de 193 nm.

máquina de litografíael orden de precisión de grueso a fino es: línea g, línea i, krf, arf, euv, como se muestra a continuación.

arf según el medio del camino óptico (aire o agua),también se puede dividir en arf dry(método seco, el medio es aire)y arfi(método húmedo, i=inmersión, el medio es agua). debido a que el índice de refracción del agua es 1,33, la longitud de onda de la luz con una longitud de onda de 193 nm en el aire será 193/1,33 = 145 nm al entrar en el agua. la longitud de onda se vuelve más corta y la precisión aumenta. entoncesarfi puede considerarse más avanzado que arf dry. entoncesel último informe financiero trimestral de asml está clasificado en orden de precisión: i-line, krf, arf dry, arfi, euv, como se muestra a continuación. (para obtener más detalles sobre asml, consulte el artículo de la cuenta pública que escribí en julio: máquina de litografía, el asml que cree y el asml real)

según el informe de asml, se puede ver quela principal demanda de máquinas de litografía a nivel mundial (más del 80%) se encuentra en euv y arfi.,yarf dry, krf y i line son máquinas de litografía de gama relativamente baja.。

arf dry (método seco) y arfi (método húmedo)la línea divisoria de aplicaciones es el proceso de 65 nm.. además de la diferencia de longitud de onda causada por los métodos secos y húmedos mencionados anteriormente, una diferencia muy importante que conduce a diferencias de aplicación radica en si se utilizan múltiples métodos de fotolitografía (varios métodos pueden mejorar la precisión del proceso).

en cuanto a cuántas capas de fotolitografía puede soportar arfi, depende de la precisión de cada fotolitografía, que es el índice de superposición en la tabla anterior del ministerio de industria y tecnología de la información. pero, francamente, la precisión de superposición de 8 nm no es particularmente sobresaliente.. en términos generalescon una precisión de superposición de 4 nm, no es un gran problema utilizar el proceso de 28 nm.. perohacer 28 nm con una precisión de superposición de 8 nm puede causar graves problemas de rendimiento。

porque a medida que disminuye el tamaño de la característica, la cantidad de capas en el chip generalmente seguirá aumentando.los errores de registro pueden acumularse en varios niveles. estos errores pueden acumularse y dar lugar a un sesgo general mayor. por ejemplo, si el número de capas de 28 nm es 64 y el número de capas de 10 nm es 128, entonces 128 capas tendrán una mayor acumulación de errores de registro.

entonces, ¿por qué ocurre un error de registro?

1. la fotomáscara puede tener ligeras desviaciones dimensionales durante el proceso de fabricación, lo que puede resultar en una coincidencia incompleta con las marcas de posicionamiento en la oblea. al igual que el posicionamiento de la oblea, la máscara también debe colocarse con precisión en la máquina de litografía. los errores en las marcas de posicionamiento, los errores mecánicos o los errores del operador pueden causar problemas de alineación de la máscara.

2. la oblea puede torcerse o doblarse durante el procesamiento y la estructura del chip que contiene puede expandirse o contraerse. esta distorsión puede provocar que el mismo patrón tenga diferentes errores de registro en diferentes ubicaciones de la oblea.

3. las limitaciones de rendimiento del propio equipo de litografía. diferentes fabricantes de equipos de litografía,la superposición de la máquina de fotolitografía (es decir, la superposición en la mesa) también es diferente.. en términos generales, cuanto más pequeña es la superposición, mayor es la resolución, mayor es la profundidad de enfoque y más caro es el equipo.

en resumen, es la máquina de litografía de fluoruro de argón 2.1.6 en el "primer (conjunto) catálogo de orientación sobre aplicaciones y promoción de equipos técnicos importantes (edición 2024)"no es un equipo avanzado digno de lágrimas.las empresas fabricantes de máquinas de litografía todavía tienen un largo camino por recorrer.

hablando objetivamente, la brecha entre las máquinas de litografía domésticas y asml sigue siendo enorme (el cuadro del informe asml anterior puede explicarlo todo), ya medida que las máquinas de litografía euv high n/a de asml aumentan en volumen, esta brecha sigue ampliándose.

¿en cuanto a por qué existe una brecha tan grande en la industria nacional de máquinas de litografía y el contraste es tan obvio en comparación con otros equipos horizontalmente?creo que la causa fundamental es el problema del mecanismo de la industria nacional de máquinas de litografía.

el panorama competitivo actual del mercado mundial de máquinas de litografía: asml, nikon y canon son los tres principales proveedores que ocupan el 99% de la cuota de mercado. entre ellos, asml tiene un dominio absoluto con el 82,14% de la cuota de mercado. el actor dominante en ingresos por ventas, pero también en términos de liderazgo tecnológico, shang geng es el señor absoluto. por el contrario, en china, la tasa de autosuficiencia de las máquinas de fotolitografía de producción nacional es inferior al 1%, que es el vínculo con la tasa de autosuficiencia más baja en la cadena de la industria de semiconductores. el eslabón más central, más importante y más complejo de la industria de los semiconductores tiene una tasa de autonomía tan baja, lo que es completamente inconsistente con la condición de mi país como el mayor país fabricante.

¿por qué la shanghai microelectronics equipment company, la única empresa que tenía grandes esperanzas puestas en ella, sigue sin poder asumir ese cargo después de veinte años? algunas personas dicen que shanghai microelectronics carece de tecnología, fondos, talentos, accesorios y gestión. estas razones pueden parecer razonables, pero creo que son sólo apariencias y retórica más que sustancia. el modelo de desarrollo de shanghai microelectronics es fundamentalmente problemático.

el mecanismo de evaluación de shanghai microelectronics equipment adopta un enfoque de investigación científica basado en proyectos en lugar de un mecanismo orientado al mercado. la investigación científica adopta un mecanismo de revisión de expertos y se centra en los avances de los productos ignorando la economía y la escala. esto realmente no beneficia a los clientes intermedios en la cadena industrial. además, debido a la escala insuficiente, los proveedores ascendentes en la cadena industrial no se benefician realmente. parece que en las últimas dos décadas el país ha invertido mucho apoyo financiero, pero no se ha formado una buena ecología de la cadena industrial. por lo tanto, el modelo de desarrollo anterior de las máquinas de litografía de china era fundamentalmente problemático.

creo,la única solución final es la comercialización., permitiendo y alentando la participación de empresas privadas de máquinas de litografía, y recompensando a aquellas empresas de máquinas de litografía y apoyando a las empresas de la cadena industrial que realmente puedan sostener e iterar de manera estable a través de métodos basados ​​en el mercado.

sólo hay dos medios para el progreso de la civilización: progreso científico y tecnológico + mercado libre y abierto.sin embargo, el progreso científico y tecnológico no puede lograrse a puerta cerrada, sino que también debe basarse en un mercado libre y abierto.

aunque hay un suspiro de que el hierro no puede convertirse en acero, creo que aquellos guerreros que están dispuestos a aceptar el desafío y creen que disfrutarán de las recompensas después del éxito ya están en el camino. luchando solos, pero todos están arriba y abajo en la cadena de la industria.todavía tendremos que confiar en ellos en el futuro. esto no es una conjetura. solo hay algunos de ellos con nombres.