nachricht

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ein aktuelles phänomen ließ mich tief nachdenken und erschreckte mich.

als ich vorgestern mein videokonto überprüfte, schickte mir wechat zunächst ein kurzes video über lithografiemaschinen. die besitzerin dieses videokontos ist eine tante und das paar ist zusammen über 110 jahre alt. der inhalt des videokontos handelt hauptsächlich von selbstfahrenden touren an verschiedenen orten auf dem wenjie m9.eine über fünfzigjährige tante im ruhestand benutzte plötzlich einen minimalistischen katalog des ministeriums für industrie und informationstechnologie, um über lithografiemaschinen zu sprechen. sie war so aufgeregt, dass sie behauptete, tränen in den augen zu haben.

warum drängt mich der video-account zu einer selbstfahrenden tante im ruhestand, mir etwas über lithografiemaschinen beizubringen?

später schickten mir gestern abend mehrere wechat-freunde auf wechat ein formular und fragten mich, was ich von heimischen lithografiemaschinen halte.

schließlich haben heute eine menge leute verschiedene artikel über lithografiemaschinen auf wechat moments weitergeleitet.

geschichtsbücher und verschiedene medienpropaganda der herrschenden klasse behaupten: „das volk ist der schöpfer der geschichte.“ wenn wir die richtigkeit dieser behauptung sicherstellen müssen, können wir nur sagen, dass es sich dabei eher um einen wunsch als um eine tatsache handelt.

eine unsichtbare kraft nutzt moderne technologische mittel, um die gedanken der gruppe zu beeinflussen.wie können wir als rationales individuum nicht beeinflusst werden? der schwierigkeitsgrad nimmt zu und erfordert mehr eigenständiges denken und logische fähigkeiten als zuvor. aber die schlechte realität ist, dass in den vereinfachten chinesischen medien ein individuum, egal wie rational es ist, immer noch in der unangenehmen lage ist, passiv gefüttert zu werden. selbst wenn es sich bei diesen materialien um fakten handelt, handelt es sich eher um selektive fakten als um umfassende fakten.

ob eine meinung richtig ist oder nicht, hat nichts mit der anzahl der menschen zu tun, die sie vertreten.sie sollten das urteil aufgeben und der wahrheit nachjagen.

diesbezüglich wurde die früheste veröffentlichung des „leitfadenkatalogs für die förderung und anwendung des ersten (sets) wichtiger technischer geräte (ausgabe 2024)“ vom öffentlichen wechat-konto „industry information weibao“ des ministeriums für industrie und informationstechnologie herausgegeben 9. september. die spezifischen inhalte sind wie folgt:

die industrie- und informationstechnologieabteilungen aller provinzen, autonomen regionen, gemeinden direkt unter der zentralregierung, städte mit separater staatsplanung, xinjiang production and construction corps und relevante zentralunternehmen:

um die innovative entwicklung, förderung und anwendung der ersten (gesetzten) großen technischen ausrüstung zu fördern und die koordinierung nationaler förderpolitiken wie industrie, finanzen, finanzen, wissenschaft und technologie zu stärken, wurde der „leitkatalog für die förderung und anwendung von“ entwickelt die erste (gesetzte) große technische ausrüstung (ausgabe 2024) „ihnen ausgehändigt, bitte führen sie die entsprechenden arbeiten entsprechend aus.

ministerium für industrie und informationstechnologie

2. september 2024

der katalog ist sehr lang. es gibt 13 kataloge der ersten ebene, einschließlich elektronischer spezialgeräte, dutzende kataloge der zweiten ebene, einschließlich der ausrüstung für integrierte schaltkreise, und kataloge der dritten ebene, einschließlich der argonfluorid-lithographiemaschinen , wie in der folgenden abbildung gezeigt:

ohne besonderen schwerpunkt in hunderten von geräten platziert,es ist schwer zu sagen, dass dies eine sehr prominente kategorie ist, die es verdient, „aufzuschreien“.es ist kein zufall, dass man von diversen selbstmedien gehypt wird.dahinter verbirgt sich eine riesige hand, und ihre absichten sind möglicherweise nicht freundlich.。

aus einemtechnologische selbstmedien, die den werten „seriosität, objektivität und integrität“ folgen, ich denke, das sollte es seintun sie etwas wertvolles für die gesellschaftding.

zunächst einmal lautet die chemische formel von argonfluorid arf. arf ist eine laserquelle zur erzeugung von laserlicht mit einer wellenlänge von 193 nm.

lithographiemaschinedie genauigkeitsreihenfolge von grob nach fein ist: g-linie, i-linie, krf, arf, euv, wie unten gezeigt.

arf entsprechend dem optischen wegmedium (luft oder wasser),es kann auch in arf dry unterteilt werden(trockenmethode, medium ist luft)und arfi(nassmethode, i=eintauchen, das medium ist wasser). da der brechungsindex von wasser 1,33 beträgt, beträgt die wellenlänge des lichts mit einer wellenlänge von 193 nm in der luft beim eintritt ins wasser 193/1,33=145 nm. die wellenlänge wird kürzer und die genauigkeit höher. alsoarfi kann als fortschrittlicher als arf dry angesehen werden. alsoder neueste vierteljährliche finanzbericht von asml ist in der reihenfolge seiner genauigkeit klassifiziert: i-line, krf, arf dry, arfi, euv, wie unten gezeigt. (weitere informationen zu asml finden sie in dem öffentlichen artikel, den ich im juli geschrieben habe: lithographiemaschine, die asml, die sie denken, und die echte asml)

dem asml-bericht zufolge lässt sich das erkennendie hauptnachfrage nach globalen lithografiemaschinen (mehr als 80 %) liegt in euv und arfi,undarf dry, krf und i-linie sind allesamt relativ preisgünstige lithografiemaschinen.。

arf dry (trockenmethode) und arfi (nassmethode)die anwendungstrennlinie ist das 65-nm-verfahren. zusätzlich zu dem wellenlängenunterschied, der durch die oben erwähnten trocken- und nassmethoden verursacht wird, besteht ein sehr wichtiger unterschied, der zu anwendungsunterschieden führt, darin, ob mehrere fotolithographiemethoden verwendet werden (mehrere methoden können die prozessgenauigkeit verbessern).

wie viele fotolithographieschichten arfi aushalten kann, hängt von der genauigkeit jeder fotolithographie ab, die dem überlagerungsindex in der obigen tabelle des ministeriums für industrie und informationstechnologie entspricht. aber ehrlich gesagt ist die overlay-genauigkeit von 8 nm nicht besonders herausragend.. allgemein gesprochenbei einer overlay-genauigkeit von 4 nm stellt die verwendung des 28-nm-verfahrens kein großes problem dar.. aberdie verwendung von 28 nm mit einer overlay-genauigkeit von 8 nm kann zu ernsthaften leistungsproblemen führen。

denn mit abnehmender strukturgröße nimmt die anzahl der schichten im chip im allgemeinen weiter zu.registrierungsfehler können sich über mehrere ebenen hinweg anhäufen. diese fehler können sich summieren, was zu einer größeren gesamtverzerrung führt. wenn beispielsweise die anzahl der schichten bei 28 nm 64 und die anzahl der schichten bei 10 nm 128 beträgt, kommt es bei 128 schichten zu einer größeren anhäufung von registrierungsfehlern.

warum tritt also ein registrierungsfehler auf?

1. die fotomaske kann während des herstellungsprozesses geringfügige maßabweichungen aufweisen, was zu einer unvollständigen übereinstimmung mit den positionierungsmarkierungen auf dem wafer führen kann. ebenso wie die waferpositionierung muss auch die maske auf der lithografiemaschine genau positioniert werden. fehler bei den positionierungsmarkierungen, mechanische fehler oder bedienerfehler können zu problemen bei der maskenausrichtung führen.

2. der wafer kann während der verarbeitung verdreht oder gebogen werden und die chipstruktur darin kann sich ausdehnen oder zusammenziehen. diese verzerrung kann dazu führen, dass dasselbe muster an verschiedenen stellen auf dem wafer unterschiedliche registrierungsfehler aufweist.

3. die leistungsbeschränkungen der lithographieausrüstung selbst. verschiedene hersteller von lithographiegeräten,auch das overlay des fotolithografiegeräts (also das overlay in der tabelle) ist unterschiedlich.. im allgemeinen gilt: je kleiner die überlagerung, desto höher die auflösung, desto größer die tiefenschärfe und desto teurer die ausrüstung.

kurz gesagt, so viel, es handelt sich um die 2.1.6-argonfluorid-lithographiemaschine im „first (set) major technical equipment promotion and application guidance catalog (ausgabe 2024)“es ist kein fortschrittliches gerät, das tränen wert ist., lithographiemaschinen-bezogene fertigungsunternehmen haben noch einen langen weg vor sich.

objektiv gesehen ist die kluft zwischen heimischen lithografiemaschinen und asml immer noch riesig (die obige asml-berichtstabelle kann alles erklären) undda die stückzahl der high n/a euv-lithographiemaschinen von asml zunimmt, wird diese lücke immer größer.

warum gibt es in der heimischen lithografiemaschinenindustrie eine so große lücke und ist der kontrast im vergleich zu anderen horizontalen geräten so offensichtlich?ich denke, die hauptursache ist das problem des mechanismus der heimischen lithografiemaschinenindustrie.

die aktuelle wettbewerbslandschaft auf dem globalen markt für lithografiemaschinen: asml, nikon und canon sind die drei größten anbieter, die 99 % des marktanteils einnehmen. unter ihnen hat asml mit 82,14 % des marktanteils eine absolute dominanz der dominierende akteur beim umsatz, aber auch hinsichtlich der technologieführerschaft ist shang geng der absolute overlord. im gegensatz dazu liegt in china der selbstversorgungsgrad der im inland hergestellten fotolithographiegeräte bei weniger als 1 %, was den niedrigsten selbstversorgungsgrad in der kette der halbleiterindustrie darstellt. das wichtigste, wichtigste und komplexeste glied in der halbleiterindustrie weist eine so niedrige autonomierate auf, dass sie völlig im widerspruch zum status meines landes als größtes produktionsland steht.

warum ist die shanghai microelectronics equipment company, das einzige unternehmen, in das große hoffnungen gesetzt werden, nach zwanzig jahren immer noch nicht in der lage, diese rolle zu übernehmen? einige leute sagen, dass es shanghai microelectronics an technologie, geldern, talenten, zubehör und management mangelt. diese gründe mögen vernünftig klingen, aber ich denke, es handelt sich eher um den schein und die rhetorik als um die substanz. das entwicklungsmodell von shanghai microelectronics ist grundsätzlich problematisch.

der bewertungsmechanismus von shanghai microelectronics equipment basiert auf einem projektbasierten wissenschaftlichen forschungsansatz und nicht auf einem marktorientierten mechanismus. die wissenschaftliche forschung wendet einen expertenbewertungsmechanismus an und konzentriert sich auf produktdurchbrüche, während die wirtschaftlichkeit und größe außer acht gelassen wird. dies kommt den nachgelagerten kunden in der industriekette nicht wirklich zugute. auch die vorgelagerten lieferanten in der industriekette profitieren nicht wirklich. es scheint, dass das land in den letzten zwei jahrzehnten viel finanzielle unterstützung investiert hat, eine gute ökologie der industriekette jedoch nicht entstanden ist. daher war das bisherige entwicklungsmodell der chinesischen lithografiemaschinen grundsätzlich problematisch.

ich finde,die einzige endgültige lösung ist die vermarktungdies ermöglicht und ermutigt private hersteller von lithografiemaschinen, sich zu beteiligen, und belohnt diejenigen hersteller von lithografiemaschinen und unterstützt unternehmen der industriekette, die durch marktbasierte methoden wirklich aufrechterhalten und stabil agieren können.

es gibt nur zwei mittel zum zivilisatorischen fortschritt: wissenschaftlicher und technologischer fortschritt + freier und offener markt.wissenschaftlicher und technischer fortschritt kann jedoch nicht hinter verschlossenen türen erfolgen, sondern muss auf einem freien und offenen markt basieren.

obwohl es einen seufzer gibt, dass eisen nicht zu stahl werden kann, glaube ich, dass diejenigen krieger, die bereit sind, die herausforderung anzunehmen und glauben, dass sie die belohnungen nach dem erfolg genießen werden, tatsächlich nicht allein sind sie kämpfen alleine, arbeiten aber alle in der industriekette zusammen.wir müssen uns auch in zukunft auf sie verlassen. das ist keine vermutung. es gibt nur ein paar von ihnen mit namen.