nuntium

한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

recentis phaenomenon me penitus cogitare et exhorrescere.

primum, cum pridie hesterno die rationem video meam inhiberem, wechat me impulit brevem video de machinis lithographiae. dominus huius rationis video amita est, et coniugum aetas 110 annos nata est. contentum rationis video maxime de auto-in itineribus variis in locis in wenjie m9.amita secreta quae supra quinquaginta annos nata erat subito catalogo minimo usus est e ministerio industriae et technologiae informationis ad loquendum de machinis lithographiae.

cur ratio video me impellit ad amitam se-incessus reductam ut me doceat de machinis lithographiae?

postea plures wechat amici in wechat heri me formam miserunt et quaesiverunt me quid de machinis lithographiae domesticae cogitarem?

denique hodie fasciculus hominum varias articulos de lithographia machinis in momenta wechat transmisit.

historiae tradendae et variae regendae instrumentorum communicationis socialis instrumentum affirmant: "populus historiae sunt creatores". si rectitudo assertionis huius videndum est, hoc solum dicere possumus velle potius quam factum.

vis invisibilis instrumentis technologicis modernis utitur ad cogitationes coetus influendas.nam rationale hominem quomodo commoveri non possumus? difficultas increscit ac plus requirit independentem cogitandi facultatemque logicam quam ante. sed res malae est quod in sinensibus simplicioribus instrumentis, quantumvis individuum rationale est, adhuc in situ inconcinno patiendo pascitur. etsi hae materiae factae sunt, factae sunt selectivae potius quam factae comprehensivae.

utrum opinio vera sit vel non, nihil pertinet ad numerum tenentium.dantes iudicium et veritatem sequens est quid facias.

quoad hoc, prima emissio "guidance catalogi promotionis et applicationis primi (set) maioris equipment technical (2024 edition)" edita est a ministerio industry ac information technologiae wechat publicae rationis "industria information weibao" in septembris viiii. certae contenta sunt haec:

industriae et informationes technologiae omnium provinciarum, regionum autonomarum, municipiorum directe sub gubernatio centrali, civitates sub consilio civitatis separatae, et xinjiang productio et construction corps, et inceptis centralibus pertinentes;

ut promoveatur evolutionis amet, promotionis et applicationis primi (paro) maioris instrumenti technici et coordinatio subsidii nationalis consilia roboranda, sicut industria, rebus oeconomicis, scientia et technicis, in "guidance catalogue pro promotion et application of primum (paro) maioris technical equipment (2024 edition)" 》 datum tibi, quaeso, id quod pertinet ad opus faciendum.

ministerium industry ac information technologiae

septembris 2, 2024

hic est catalogus ut patet in figura infra;

in centenis machinis sine speciali emphasis;difficile dictu est hoc genus praestantissimum dignum "clamare".ex variis instrumentis per se hyped non est accidens.manus ingens post eam abscondita est, et eius intentiones non sunt benignae.。

ex a *technologica auto-media inhaerentia valoribus "gravitatis, obiectivitatis et integritatis"puto deberefac aliquid valuable ad societatemrem.

primum, argonis fluoride formula chemica est arf. arf fons laser usus est ad lucem laseris generandam cum necem 193nm.

lithographia machinaordo accurationis a crasso ad pulchrum est: g-linea, i-linea, krf, arf, euv.ut infra.

arf secundum viam opticam medium (aerem vel aquam);dividi etiam potest in arf(medium siccum, medium est aer)et arfi *(modus humidum, i = immersio, medium est aqua). quia index refractivus aquae est 1.33, aequalitas lucis cum aequalitate 193nm in aere fiet 193/1.33=145, cum intrat aquam. sicarfi potest videri provectior quam arf. sicasml novissima relatio quarterly nummaria in accuratione indicatur: i-linea, krf, arf sicca, arfi, euv, ut infra patebit.. (pro pluribus de asml details, ad publicam rationem articulum quem scripsi in iulio: machinula lithographia, asml cogitas et verum asml referas)

secundum relationem asml videri potestpraecipua postulatio machinis lithographiae globalis (plus quam 80%) in euv et arfi estetarf sicca, krf, et linea omnia sunt machinae lithographiae relative humilis.。

arf sicca (modum arida) et arfi (infectum modum)applicatio lineae dividens est processus 65nm. praeter differentiam adsum differentiae methodorum aridae et humidae supra memoratae causatur, maxima differentia quae ducit ad applicationes differentias in num multiplex methodi photolithographiae adhibeantur (multae methodi accurationis processus emendare possunt).

quot ordines photolithographiae arfi sustinere possunt, is pendet a subtilitate cuiusque photolithographiae, quae est index laminis in mensa ministri industry et information technologiae supra scriptae. sed ingenue, vestis subtiliter 8nm non perimie.. generalitercum 4nm accuratione obduces, magna difficultas ad 28nm processum uti non est.. sedfaciens 28nm cum 8nm deaurabis accurate ut faciam gravis perficientur problems。

quia cum magnitudo plumae decrescit, numerus stratorum in spuma fere crescere perget.registration errores accumula per plures gradus. errores hi addere possunt, in ampliore studio consequantur. exempli gratia, si numerus laminis 28nm est 64 et numerus 10nm laminis 128 est, tunc 128 strata maiorem cumulum errorum adnotationee habebunt.

cur adnotatione error occurrit?

1. fotomascus parvas deflexiones dimensivas habere potest in processu fabricando, qui in par incompleto inveniatur cum notis laganum positionibus. sicut laganum situm, persona etiam accurate in machina lithographia collocari debet. errores in notis ponendis, erroribus mechanicis, vel errorum operatorium causare possunt problemata larva larva.

2. laganum in dispensando detorqueri vel flecti potest, et compages quae in eo chippis dilatare vel contrahere possunt. haec depravatio causam eiusdem exemplaris potest habere diversos errores adnotationes in diversis locis in lagano.

3. de limitationibus lithographiae instrumento perficiendo ipsum. lithographiae diversorum instrumentorum artifices;operculum machinae photolithographiae (id est, vestis in tabula) alia quoque est.. generaliter, quo minor operitur, quanto est superior, eo major profunditas umbilici, et carior instrumentum.

denique tantum, est 2.1.6 machina lithographia argonis fluoride in "primo (set) maioris technical equipment promotion and application guide catalogue (2024 edition)"lacrimarum pars instrumenti provecta non est., lithographia machinae societates fabricandi relatas adhuc longum iter habent.

objective loquendo, intermedium inter machinis lithographiae domesticum et asml adhuc ingens est (asml relatio chart supra omnia explicare potest), etsicut asml princeps n/a euv machinae lithographiae volumine augentur, haec gap adhuc dilatatur.

cur autem tam magnus hiatus est in machina domestica industria lithographia, et antithesis tam perspicua comparata cum aliis instrumentis horizontaliter?causam radicem puto esse problema machinae industriae lithographiae domesticae mechanismi.

praesens competitive landscape mercatus machinalis lithographiae globalis: asml, nikon et canon tres maiores praebitores tenentes 99% mercatus participes sunt dominans ludio ludius in vectigalibus venditionibus, sed etiam in terminis technologiae ductus shang geng est absolutus. e contra, in sinis, auto-sufficientiae rate machinis photolithographiae domestice productae minor est quam 1%, quae est nexus cum infima sui sufficientiae rate in catena industriae semiconductoris. praecipua nucleus, maximi momenti, et maxime complexus nexus in semiconductore industriae talem ratem autonomiam habet humilem, quae prorsus abhorret a statu patriae meae quam maximae fabricationis patriae.

cur shanghai microelectronics equipment societas, sola societas magna spe in ea posita, adhuc post viginti annos munus suscipere non potuit? nonnulli dicunt shanghai microelectronics technologia, pecunia, talentis, accessoriis et administratione carere. has rationes sanas rationabiliter, sed iustas species et rhetorices magis quam substantiam esse puto. shanghai microelectronicorum progressionis exemplar est fundamentaliter problematicum.

aestimatio mechanismi shanghai microelectronics apparatus adparatum investigationis scientificae fundatae potius accessionis quam mechanismi mercatus ordinati assumit. investigatio scientifica peritiam mechanismum recensionis adhibet et sistit in producto breakthroughs, neglectis oeconomicis et scalae. patria in praeteritum duo decennia multum subsidii oeconomici collocasse videtur, sed bona oecologia catenae industrialis formata non est. ergo exemplar evolutionis praecedentis machinis lithographiae sinarum fundamentaliter problematicum fuit.

cogito,sola ultima solutio venalicium estpermittens et hortatur societates machinae privatae lithographiae ad participandas, ac praemiando illas societates machinae lithographiae et subsidia industriae catenarum societatum quae per methodos mercatus fundatas potest vere sustentare et stabiliter iterari.

instrumenta civilis cultus duo tantum sunt progressus: scientificum et technologicum + liberum et apertum forum.attamen progressus scientifici et technologici post fores clausas fieri non possunt, sed etiam in libero et aperto foro fundari debent.

etsi gemens ferrum non potest fieri ferrum, credo eos bellatores qui provocationem accipere volunt et putant se praemiis post successum frui, iam in via sunt pugnam solum, sed omnes sursum deorsumque industriam catenam.restat in eis in posterum.