समाचारं

स्रोतः:नारङ्गः भ्रमितः नास्ति (wechat public account)

अन्ते मम अर्धचालकस्य विषये वक्तुं अवसरः अस्ति यत् एतत् पूर्वं प्रकाशितम् आसीत्, परन्तु पठित्वा सम्भवतः मया तस्य चिन्ता नासीत् । किन्तु न जाने किमर्थं दशदिनानन्तरं सहसा किण्वनं जातम् ।

अन्तर्भाग:

1. इदं शुष्कं लिथोग्राफी यन्त्रं 28nm प्रक्रियां उत्पादयितुं न शक्नोति 8nm लिथोग्राफी यन्त्रं शुद्धं बकवासम् अस्ति;

2. 28nm लिथोग्राफी यन्त्रं वस्तुतः arfi विसर्जन लिथोग्राफी यन्त्रम् अस्ति यद्यपि एतत् "28nm लिथोग्राफी यन्त्रं" इति न वक्तव्यम्, तथापि एतत् अवगन्तुं सुलभं यत् एतत् लिथोग्राफी यन्त्रम् अस्ति यस्य उपयोगः 28 उत्पादनपङ्क्तौ कर्तुं शक्यते।

अस्य शुष्कप्रकारस्य च भेदः अस्ति यत् प्रकाशः काचात् माध्यमरूपेण जलं गच्छति वा, अपवर्तनकोणः च वायुतः बहु लघुः भवति, अतः तरङ्गदैर्घ्यं १९३nm इत्यस्य तरङ्गदैर्घ्यस्य १३४nm इत्यस्य बराबरम् अस्ति ।

एएसएमएल इत्यस्य १९३ एनएम विसर्जन लिथोग्राफी यन्त्रं प्रायः २२ एनएम इत्यस्य एकं एक्सपोजरं प्राप्तुं शक्नोति । वास्तविकद्वारदीर्घता २२nm नास्ति, परन्तु तस्य महत्त्वं नास्ति । अतः २८nm इत्यस्य प्राप्त्यर्थं बहुविधं एक्सपोजरस्य आवश्यकता नास्ति, तस्य आवश्यकता अपि नास्ति ।

सार्वजनिकसूचनातः एतत् शुष्कं शिलालेखनयन्त्रम् अस्ति यत् केवलं ६५nm प्रक्रियां कर्तुं शक्नोति ।

3. बहुसंपर्कः: विसर्जनप्रक्रियाप्रौद्योगिक्यां उपयुज्यते, मुख्यतया 14nm-7nm "उन्नतप्रक्रिया" प्रौद्योगिकी उत्पादयति। 28nm इति न वक्तव्यं, 14nm इदानीं बहु-एक्सपोजरस्य उपयोगं कर्तुं किञ्चित् संकोचम् अस्ति यत् इदं महत्त्वपूर्णं जटिलं च अस्ति, उदाहरणार्थं, 12 वा 10. इदं श्रेयस्करं भविष्यति यदि प्रदर्शनं सुदृढं भवति तथा च मूल्यं अपरिवर्तितं वर्तते। तस्मिन् समये एप्पल्-सङ्घस्य स्पर्धां कर्तुं tsmc, samsung च 14nm नोड् इत्यत्र बहु-एक्सपोजरस्य प्रबलतया प्रचारं कुर्वन्तौ आस्ताम् ।

पश्चात् अहं 7nm इत्यस्य उपयोगं कर्तुं प्रयतितवान्, परन्तु यतः एतत् अतीव महत्, अत्यन्तं अकुशलं च आसीत्, अहं केवलं एकवर्षं यावत् tsmc इत्यत्र जीवितः अभवम्, ततः euv इत्यत्र परिवर्तनं कृतवान् ।

बहु-एक्सपोजर-प्रौद्योगिकी तदानीन्तनस्य इन्टेल्-संस्थायाः बहु निवेशः आसीत्, परन्तु पश्चात् तस्य व्यसनं जातम् इति निष्पन्नम्...

बहु-संपर्कस्य त्रयः प्रकाराः सन्ति : lele, lfle तथा sadp/saqp इति ।

lele, लिथ-एच-लिथ-एच, लिथ-एच-लिथ-एच। प्रकाशशिलालेखनप्रतिमानानाम् मूलस्तरं द्वयोः वा अधिकयोः मुखौटयोः विभज्य, चित्रस्य उपरिस्थापनं कुर्वन्तु । एतत् एवम् कल्पनीयम्।

lfle, ltiho-freeze-ltiho-etch, लिथोग्राफी-इलाज-लिथोग्राफी-एच। सारः lele इत्यस्य सदृशः अस्ति, यत् एचिंग् प्रक्रियां रक्षति, व्ययस्य न्यूनीकरणं च करोति ।

sadp selfaligneddoublepatterning स्व-संरेखितं डबल-पैटर्निंग् तथा saqp चतुर्गुण-एक्सपोजर-प्रौद्योगिकी (इदं प्रतीयते यत् हुवावे-इत्यनेन किञ्चित्कालपूर्वं चतुर्गुण-एक्सपोजरस्य पेटन्टं प्राप्तम्)। अत्यावश्यकसिद्धान्ताः अपि तथैव सन्ति।

विषयः अस्ति यत् - १.चतुर्थः एक्सपोजरः अपि इन्टेल् इत्यनेन १०nm इत्यस्य अनन्तरं कृतः, तेषां बहु मजा अभवत्, परन्तु सहसा euv आगतः, इन्टेल् इत्यनेन तेषां मूर्खता कृता इति उद्घोषः कृतः ।अहं मम धनुर्विद्याकौशलस्य अभ्यासं कुर्वन् आसीत् भवान् च tsmc कृते उपमशीनगनं निर्मितवान्।

मम भावः स्पष्टः अस्ति यत् -उन्नतप्रक्रियाणां संपर्कस्य आर्थिकमूल्यं नास्ति, प्रक्रियासंशोधनविकासः औद्योगिकमूल्यं च अद्यत्वे चीनदेशे एव सीमितम् अस्ति ।वयं बहु पृष्ठतः स्मः, ये पृष्ठतः अनुसरणं कुर्वन्ति तेषां कृते मूर्-नियमस्य अनुसरणं कर्तुं असम्भवम्, यत् अग्रणी-संशोधन-विकासयोः लयः अस्ति

अस्तित्वस्य समस्यायाः समाधानं कृत्वा नाकाबन्दीभङ्गं कृत्वा महत् सामरिकं महत्त्वं खलु अस्ति । परन्तु आर्थिकलाभाः सीमिताः सन्ति, परन्तु उद्योगस्य गतिः कूर्दनेन विकसिता भविष्यति।

६५, ४०, २८, १४, ७ पुनरावृत्तौ वयं कर्तुं न शक्नुमः । अनिवार्यं यत् १४ लघु-उत्पादनक्षमतां प्राप्तुं (आशावादीरूपेण, ३-५ वर्षाणि यावत् समयः भवितुं शक्नोति), मुख्यतया उपकरणनिर्माण-इञ्जिनीयरिङ्ग-क्षेत्रे संचयस्य माध्यमेन arfi->euv तथा duv इत्येतयोः शीघ्रं पूर्णीकरणं करणीयम् शङ्घाई माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स अधिकं 7nm उजागरयितुं उत्तमप्रौद्योगिक्याः ग्राहकैः सह कार्यं कर्तुं शक्नोति, ततः euv कर्तुं शक्नोति एषा प्रक्रिया आरभ्यतुं 10 वर्षाणि यावत् समयः भवति इति अनुमानितम् अस्ति।

huawei इत्येतत् कर्तुं शक्नोति, यतः huawei अतीव उन्नतः अस्ति यत् एतत् किमपि मूल्येन 5nm इत्यस्य समकक्षं प्रौद्योगिकीम् विकसितुं स्वस्य चरमपर्यन्तं प्राप्तवान् अस्ति वस्तुतः, प्रौद्योगिक्याः सामूहिक-उत्पादनार्थं कोऽपि महत्त्वं नास्ति... उपज-दरः न्यूनः भवितुम् अर्हति, व्ययः must be extremely high, and it is not a technological breakthrough , एकप्रकारस्य उत्कीर्णनशिल्पः अस्ति, परन्तु लक्ष्यं प्राप्तुं वास्तवमेव भयानकम् अस्ति। उत्पादनक्षमता अपि सीमितं भविष्यति, परन्तु अस्माकं euv न भवति इति कोऽपि उपायः नास्ति ।

4. ओवरले परिशुद्धता : 8nm, यस्य तथाकथितस्य 8nm लिथोग्राफी यन्त्रेण सह किमपि सम्बन्धः नास्ति । पश्चात्, मम कृते पृथक् पृथक् ओवरले-सटीकतायाः विषये वक्तुं अवसरः भविष्यति, यत् अधिकं रोचकम् अस्ति ।

5. प्रगतेः विषये : १.

अहं अवगच्छामि यत् एषा सर्वा सार्वजनिकसूचना एव, विदेशिनः च पूर्वमेव विविधरीत्या निवेदितवन्तः।

वस्तुतः उद्योगे केचन वरिष्ठमित्राः अवदन् यत् अस्मिन् वर्षे महती प्रगतिः भविष्यति, परन्तु सम्प्रति...

यदा प्रकाशशिलालेखनयन्त्रं सामूहिकनिर्माणपदवीं प्राप्नोति तदा स्थिरता सर्वोपरि भवति । अस्माभिः सुनिश्चितं कर्तव्यं यत् एतत् जटिलं यन्त्रं कतिपयवर्षपर्यन्तं स्थिरतया कुशलतया च कार्यं कर्तुं शक्नोति।
6. शिलालेखयन्त्राणां निवेशस्थितेः विषये : १.

इदं किञ्चित् दूरगामी अस्ति... 1970i तथा 1980i इत्येतयोः स्तरयोः अनुरूपं 28nm अथवा 14nm लिथोग्राफी यन्त्राणां सामूहिकं उत्पादनं कर्तुं मार्केट् उत्सुकः अस्ति। अतः मया श्रुतं प्रायः सप्ताहद्वयं गतम्, अद्य सहसा उष्णः अन्वेषणविषयः अभवत् ।

एतादृशं वस्तु निरन्तरं उत्प्रेरकं करणीयम्, न्यूनातिन्यूनं तत् मिथ्याकरणीयं न भवितुमर्हति। परन्तु इदानीं मिथ्याकरणम् अतीव सुलभम् अस्ति । अतः यदि विपण्यं नास्ति तर्हि तस्य निरन्तरता न भवितुमर्हति।

अस्माभिः वास्तवतः अद्यापि arfi इत्यस्य आधिकारिकघोषणायाः प्रतीक्षा कर्तव्या, तथा च पुष्टिकृतानां सुपर मेनलाइन-अवकाशानां तरङ्गः आगमिष्यति |

(पूर्णः पाठः सम्पूर्णः）