nuntium

fontem:aliquam non confunditur (wechat publicae causa)

tandem facultas loquendi de semiconductoribus est. hoc satis pretiosum est. sed nescio cur subito post decem dies deferbuerit.

core:

1. haec machina lithographia sicca est et 28nm processum producere non potest;

2. 28nm lithographia apparatus est actu machinae lithographiae arfi immersionis. quamvis dici non debeat "28nm apparatus lithographia", facile intellegitur illam esse machinam lithographiam quae in linea 28 productionis adhiberi potest.

discrimen inter hoc et siccum genus est utrum aqua sit sicut medium sub expositione ratio moduli; of 193nm is equivalent to the wavelength of 134nm.

asml's 193nm immersio apparatus lithographiae unam expositionem circiter 22nm consequi potest. ipsa porta longitudo 22nm non est, sed hoc non refert. ergo 28nm multae expositiones non requirit ad consequendum, et non indiget.

ex publica informatione, haec machina lithographia arida est quae solum 65nm processum facere potest.

3. multiplex detectio: usus in technologia in immersione processus, maxime producens 14nm-7nm "progressionem" technologiam. ut non dicam 28nm, 14nm est aliquid piget uti nunc multi- expositio, cara et multiplex pretium non mutatur ambitio. illo tempore, tsmc et lg strenue multi- expositionis in 14nm nodi certatim pro apple promovebantur.

postea 7nm usus sum, sed quia nimis carus et nimium inhabilis erat, tantum supervixi ad tsmc per annum et postea ad euv switched.

multi-expositio technologiae aliquid intel investivit tunc graviter in tergo fuit, sed evenit ut postea ei deditus factus esset.

tria genera expositionis multiformis sunt: ​​lele, lfle et sadp/saqp.

lele, lith-etch-lith-etch, lith-etch-lith-etch. tabulatum originale photolithographiae exemplaria in duas vel plures personas divide, et imaginem superpositionis exerce. hoc tam imaginabile est.

lfle, ltiho-freeze-ltiho-etch, lithographia-curionis-lithographia-etch. similis in natura cum lele, processum an enthymema servat et gratuita minuit.

sadp est selfaligneddoublepatterning duplici exemplaris sui-aligned et saqp quadruplicata detectio technologiae (videtur quod huawei patentem nactus est pro nuditate quadruplicata olim). principia essentialia similia sunt.

punctum est:4 detectio etiam facta est per intel post 10nm, et multum iocum habuerunt, sed subito euv venerunt, et intel clamaverunt se delusos esse.sagittae meae artes exercebam et tormentarii submachinam pro tsmc aedificabas.

patet punctum meum;patefacio processuum progressuum nullum valorem oeconomicum habet, immo investigationem et progressionem et valorem industriae in sinis hodie limitatur.nimis longe sumus, et impossibile est eos qui sequuntur legem moore sequi, qui numerus est investigationis et progressus ducens.

magna quidem significatio opportuna est, solvendo quaestionem superstitialem ac perrumpens obsidionem. sed utilitates oeconomicae sunt limitatae, sed gradus industriae augebit saltibus et terminis.

id facere non possumus in 65, 40, 28, 14, et 7 iterationes. oportet celeriter perficere arfi->euv et duv ut capacitatem quattuordecim parvarum productionis (optime, licet 3-5 annos capere), praesertim per coacervationem in campo instrumentorum fabricandi. shanghai microelectronics cum clientibus bonis technologicis laborare potest ut plus 7nm patefaciat, et tunc euv facere aestimatur.

huawei id facere potest, quia huawei nimis provectus est. pervenit ad apicem technicae technicae 5nm quovis aequivalens. re vera technologia nullum momentum habet ad massam productionis altissimus esse debet et non technologicum perrumpit. facultas productio etiam limitatur, sed nullo modo euv non habemus.

4. deaurabis praecisionem: 8nm, quod nihil ad rem cum machina lithographia sic dicta. postea occasionem de ipsarum accuratione separatim loqui, quod magis placet.

5. de progressu;

haec omnia publica esse intelligo, et peregrini iam varie nuntiarunt.

revera, quidam seniores amici de industria dixerunt significant profectum futurum hoc anno, sed nunc...

cum photolithographia machina ad scaenam productivam massam pervenit, stabilitas praecipua est. nobis opus est ut machina haec complexa pluribus annis stabiliter et efficaciter operari possit.
6. de collocatione machinis lithographiae situ;

aliquantum remotum... mercatus molem 28nm vel etiam 14nm machinarum lithographiae productionem expectat, gradibus 1970 et 1980i respondens. ita fere duas septimanas cum de eo audivi, et subito hodie argumentatio calida facta est.

huiusmodi res continuo catalysos esse debet, certe falsificari non debet. sed falsificare nunc nimis facile est. ergo, si nullum forum est, non debet permanere.

nos re vera adhuc exspectandum est denuntiatio officialis arfi, et fluctus occasiones super mainline confirmatas venient.

(full text complete）