nuntium

한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

dudum subito audivi multos rogantes;

sinis proprium 7nmlithographia machinavere creatus erat?

causa denuntiatio a ministerio industry et information technologiae die 9 septembris: "ductor catalogus promotionis et applicationis primi (set) maioris technical equipment (2024 edition)".

invenit aliquis duas lineas in "tabula contentorum" esse non rectas. aliquid valde erratum est.

iconem vide.

quid istae duae lineae significant? nunquid sina subito et quiete suam novam machinam lithographiam sine adiectivo suo annuntiavit?

cur "≤8nm" est in prooemio machinae photographicae infra? o deus meus, nonne perruptio "7nm" affixorum est?

mox quidam dixit: magna. decem milia montes navicula levis transiit, et victoria vera est. sina tandem suam 7nm lithographiam machinam habet et suum 7nm astularum sine metu denuo adhaesit facere potest.

quidam tamen dicunt: noli excitari. iustus error. quod "8nm" non est punctum, "65nm" supra est. astulae domesticae tantum in 65nm gradu adhuc sunt, et optime possumus 28nm attingere, quod adhuc ab 7nm abest.

duae voces, duae rhythmi.

nescio, quomodo id sentis audito?

quid est notio "creandi 7nm chippis"? itane mirum est hoc facere? quid significant haec pauca verba in "catalogo" ministerii industry ac information technologiae? etiamne colla in spumam fixa sunt?

meus sensus est fortasse postea "sentire" posse. quia, plerisque hominibus, nimis ignota est eu.

exempli gratia: sicut legitur fragmentum evangelii;

"macula lithographia domestica publice denuntiavit hoc tempus esse obaurationem ≤8nm, solutionis 65nm, genus siccum, necem 193nm, apparatus lithographiae duv".

sententia non nimis longa est nec ulla inusitata verba continet. si autem non sunt doctorum qui hanc industriam noverunt, quam multi eam intelligere possunt? quid multis verbis intellegis?

forsitan, si vis vere conceptum hujus rei habere et non facile abduci, prius intelliges saltem 10 res.

incipiamus cum illo qui ante annum ledo screen.

tonitrua sonus

die 29 augusti, anno elapso, huawei mate60 pro telephono mobili subito sine ullo publico sale abiit.

statim post, his paucis diebus, ex investigationibus maioribus ad circulos meos amicorum, unum verbum velum trahebat: 7nm chip.

multi primae globi hominum, qui hoc telephonum miserunt, domi forisque idem fecerunt, discerpentes.

tolle kirin 9000s chip in telephono mobili, currendi ustulo, experire effectum, et vide quid gradu attingat.

conclusio est: hoc vere potest esse 7nm chip.

magna tonitrua.

multi homines gemunt: "difficillimum tempus praeteriit, et navis decem mille montes transiit."

cur id dicis? quam difficile est 7nm spumam facere? itane mirum?

ita factum est ut eo tempore, auctorem "chip war" invitavi, mr yu sheng, ad vivam iaci locus. hanc quoque occasionem cepi ut aliquas informationes legeres et aliquos amicos consulerem.

cum se cognoscat, magis magisque sentio;

ad creandum 7nm chippis, vere opus est ut per milia montium.

mirum sane esset si eam percipere possemus.

hoc mirabile est et vere dignum scitu.

ita hodie, auxiliatus sum ut eam exponam.

indicium hardcore est aliquantulus, itaque id tibi in mandarin explicare conabor.

incipiamus a "7nm" quod multi stare fecerunt et exclamare.

7nm

primum, quaestio solum-grada: quid hoc 7nm refertur ad?

quid de hoc numero curas?

haec res apud te est ordienda.

cum mobile telephonum emere es, vox? visne illam validam, se refieream longam, ac tenuem et levem habere?

haec tria requiruntur, cum in mundum assupationem introducuntur, tria "ultima kpis" fiunt;

ppa。

effectu euismod, power consummatio, area magnitudine.

hoc ppa ad fabricatorem chippis cecidit et factus est "scopus parvus":

transitores plus in plus posuit in parva chip.

praecipuum propositum est operarium habere qui plus laboris habet, adiuvare te plura et maiora facere potest, et minus electricitatis tuae consumit ac minus spatii tui sumit.

sed quid si plures sunt operarii quadrati?

solutio est indignum: fac operariis pondus amittere.

est "rima" in structura transistoris, quae multum spatii relinquit ad pondus damnum.

quare notandum est quod cum primum loquimur de xxxiii et dicimus "tuum est 28nm spumae" et "hoc est meum 14nm chip", 28nm et 14nm non ad idem refertur. non magnitudo chip, non magnitudo transistoris aut distantia transistorum, sed "latitudo canalis" in transistoris.

postea vero, dum fabulamur, involutum obtinuit. 28nm, 14nm, 7nm.

cum advenit "7nm chippis", utrum "latitudo canalis" revera ad 7nm reducatur, iam non est punctum.

processus nanometer minor ppa melius significat, quod magis "employees" in minori "officio" convenire potest.

quantum satis est?

faciens 14nm chippis significat stipare plusquam 30 decies centena millia transistores in singulas quadratos millimetres.

faciens 7nm assulam significat prope 100 miliones transistores in singulis millimetre quadratis esse inclusos.

bis ut capax. sed etiam, duplo difficile est.

et hoc iustum est initium "transeuntes montes decem mille".

quia non satis est eos modo exprimi. quomodo perspicis haec centenis myriades operariorum in area minus quam ad unguem disponere?

lithographia

sic, illi nititur methodo pretiosa sonans: photolithographia.

quomodo sculpes utentes lumine?

haec materia turpis dicitur, sed valde perplexa esse potest. apparatus photographicus cum pluribus quam 100,000 partibus facile centum miliones dollariorum sine naviculas liberarum constare potest, quod carior est quam boeing 737 . iusto id facere poteris.

sed simplex esse, est simplex. vidisti movie?

cum cinematographicum traditum projectum est, radius lucis primum emittitur, per lens sicut vitrum magnificans transiit, et deinde per iacum cinematographici proiectum exemplar in cinematographico in screen.

similis est lithographia. etiam trabem lucis figit, per systemata lentis statuta transit, et tunc larvam transit, et dein insculpta tabulae ambitus larvam super substratam facit, ut spumam, id est, laganum, insculptum sit.

sola differentia est quod, cum pelliculam exhibens, "vitrum magnificare" uteris, ut parvam imaginem proiciamus in picturam magnam. photolithographia "vitrum magnificare" utitur ut magnam imaginem in parvam imaginem proiciamus.

quam scite proiectionem luminis ut pressionibus utebatur.

sed hoc in loco tantum margines clare delineavi et scio unde incipiam.

sed, quam ut mauris?

circuitus schematis 7nm spumae plane debet justos billionum transistorum aliorumque electronicarum partium componi.

praeterea a transistoribus usque ad fila transistores connectens, omnia tam tenuis quam campus nanometer, quod 100,000 vicibus tenuius est quam lamina cultelli culinarii tui.

industriam aliquis semel describit; hoc aequivalet totam shanghai exsculpere in area digiti magnitudinem. et cella non potes deesset a via.

insanus est. quomodo hoc insculpunt? quomodo sculpere possumus sulci et sulci huius generis diagramma "cito, accurate, stabiliter"? per laser?

in principio, non placet nemo.

tamen, laser directam scripturam, nanoimprinting... aliam methodum post aliam tentavi. quaedam valde pretiosa sunt, quaedam valde tarda, quaedam facile abraduntur. difficile est mercaturam facere, et qui hoc fecerit, pecuniam amittet.

donec quis invenit modum admodum imaginativam;

serva patriam per curvas. utere photoresist.

photoresist

quid est photoresist?

photoresista est res sensitiva valde ad lucem.

semel in lucem expositae specificae necem, motus chemicus occurrit.

valde tenax fuit, sed timidus factus est postea expositus, et facile solvendo chemica ablutus est.

hoc punctum perspiciens, lithographia novam quaestionem solvendi accessus habet:

non innititur in corpore uno ictu ad tempus carving, sed innititur accumsan chemica etching per accumsan.

etsi multi processus implicantur, idea plerumque similis est "elephanto in armario", cum quattuor gradibus principalibus:

primus gradus est adhibere glutinum. applicare stratum photoresist aequaliter ad materiam rudis, id est, laganum.

secundus gradus est lucendi. radius levis specifica transeat larvam cum diagrammate in eo ducta.

ubi lineae aream operiunt, lux pertransire non potest, et photoresista pristinum suum temperamentum adhuc habet.

ubi integumentum lineae nulla est, lux transit, et cum in contactum cum photoresi venit, photoresista in aliam rationem mutat.

tertius gradus est glutinum lavandi. laganum cum duobus speciebus photoresist in solutione chemica specifica coopertum pone.

illae photoresistae cum iracundia relative molli dissolventur et ambitus schematis in strato photoresist exhibebitur.

step 4: etching. laganum in solutione etching pone.

area ubi photoresista dissoluta non est, aequipollet cinematographico tutelae obtectus, dum area ubi photoresista dissoluta erit in directum contactum cum liquore mordax et "cito, accurate et incle" par. gullies circuit.

lux, larva, photoresist, laganum, additae variae solutiones chemicae.

quod erat primum difficile physicae quaestio subito in mediocrem chemiam quaestionem vertitur et soluta est.

haec est vena photolithographiae modum amet:

primum, projiciunt ambitum diagrammatum in subjectum sicut pellicula;

deinde, sicut photographicam evolvit, tabulae ambitus in scalpello adnectitur.

videtur quod photolithographia non sit difficilis.

non placet.

sed difficultas est clavis hic lucis adsum.

adsum

sculpturas nanoscales in ambitu schematis subtiliter; certe cultellus in manu tua satis bene erit.

quomodo cultrum tenuius accipias?

cum ferro tuo fit immaculato ferro, ferrum omne tuum acuit.

sed quid facis cum cultellus tuus radius sit lucis et nihil potes acuere?

ex fonte materiae cultelli eam solve: lucis necem brevior, acrior ore naturali.

quia quanto brevior est luminis necem, tanto minus diffusionis angulum diffractionis. id est, lumen erit obedientius ambulet in linea recta, non terret vel discurrens, et percutiet ubicumque designas.

non facile est. iustum spectrum apertum et lucem brevissimam quaeramus, facile utor.

imaginum (imago source: www.asml.com/en)

non simplex. quia brevis necem lux non potest uti si vis.

habesne facultatem illam stabiliter ac continenter edicere, dum sub dicione sumptibus retinetur? non te photoresist ad vim suam? suntne alii processus cum illo compatibiles tui?

omnes quaestiones difficiles sunt. omnia exploranda sunt.

post explorationem ad hunc diem duae sunt praecipuae "caeruleae leves" quas homines colligere possunt cum efficacia stabili et constanti impensa;

duv et euv.

duv lucis cuiusdam nomen est: deep ultra-violet (lux profunda ultraviolacea). necem esse potest tam brevis quam 193nm.

multi credunt hunc apparatum lithographiae "levis cultri" utentem posse basically tantum astulas cum processibus supra 20nm insculpere.

euv nomen quoque lucis cuiusdam est: extremae ultra-violetae. ut notas ex nomine, hoc genus lucis arctius plexu est, et necem tam brevis potest esse quam 13.5nm.

qui hunc cultrum possidet, facultas erit ut alium gradum procedat exsculptis abutatur provectioribus ut 7nm, 5nm, et 3nm.

optime. nonne problema brevium fluctuum levium solvendum est?

ad 7nm chippis, utere euv.

solvitur problema technicum. sed aliae quaestiones veniunt.

aliquis in collo haesit.

adhæsit colli

in statu, una tantum societas in mundo est quae apparatum euv lithographiae producere potest: asml in nederlandia.

anno 2018, sinarum smic consumpsit 120 miliones nummi aequivalentes suo annuo lucro ad ordinem sinarum primum euv apparatum lithographiae ab asml.

magnus paciscor.

asml etiam valde gauisus est, atque etiam licentia exportationis parata est.

sed locutus est in eros. asseritur euv apparatum lithographiae xx% partium americanarum continere, et si exportare vis, consensum eorum quaerere debes. et dissentiunt.

charta bannum.

quid facerem? si euv uti non possumus qui 7nm chippis insculpere potest, num 7nm astularum facere non possumus?

potesne uti experiri duv qui tantum astulas supra 20nm insculpere potest?

spes est.

duae sunt technologiae quae spem afferre possunt: ​​immersio lithographia et multiplex expositio.

immersionem lithographiae

quid est immersio lithographia?

valde simplex est. in aqua macerari et scalpere.

notum: quo brevior necem tui "levis cultelli", eo melius.

notum est etiam quod levis unda duv nonnisi tam brevis quam 193nm esse potest.

idea exsculpendi astuli provectioris prodiit; an necem duv brevior fieri potest?

adde etiam aquam.

inter laganum superficiem et lens iacuit aquae ultrapurae additae, quae adeo pura est ut nullas immunditias contineat sicut mineralia, particulas, bacteria, microorganismos, tantumque hydrogenii iones et hydroxyl iones continet.

deinde refringat lumen in aqua.

index refractivus 193, lux profunda ultraviolacea in aqua, est 1.44, et necem amplius ad 134um minui potest.

"flagrum" mox acrior fit.

sic dolor.

haec methodus apparatum lithographiae duv protinus ab aetate arida "sculpendi in aere" attulit ad tempus immersionis "sculpendae in aqua".

sed non satis est.

per "ensis" hoc modo iterando, nominationem in genere tuo obtinere possis et in gradu fabricationis a 28nm processu ad 22nm processum emendare. sed difficile est adhuc in universitate tsinghua ingredi ac 7nm . dominari processum in unum ire.

quid facerem?

aliam etiam methodum addere potes: expositiones multiplices.

multa nuditate

quid est multiplex nuditas?

etiam simplex est. sculpere aliquoties.

vel, pecte comas.

quaeritur: quomodo possum pectere omnes capillos et purgare radices?

pecten saepius.

estne aliqua via efficacior et pectinata omnia in unum eundum?

difficilis, sed non impossibilis. ad yiwu potes. ask a bulla ad novum pectinem customize.

centena millia capilorum in capite sunt. si omnia simul ponere voles, pectinem fac cum saltem centenis milibus dentium.

sed quid si dominus in yiwu hoc audit et dicit se facere non posse, vel etiam si facit, tibi vendere non potest?

tum efficientiam vel inefficentiam non persequamur. melius est aliquoties plura tempora pectere ut actum sit in loco fac.

idem valet de multiplici expositione.

si lineae in tabula "shanghai" sunt nimis tenues et nimis difficiles ad "engrave", eam paucis temporibus insculpunt.

scinditur in tres lineas sparsis "stratas", ac deinde tres "larvas", singulatim facit. denique non potest etiam reclinant ut completam "shanghai map"?

capilli etiam atque etiam pecti possunt. circuitu schemata etiam accumsan a accumsan sculpi possunt.

sic dicti processus lele, lfle processus, et processus sapd essentialiter sunt plures expositiones et multi modi insculpendi.

callidus. si opus 7nm chip, id facere non posset post aliquot plures detectiones?

cogitatione sic. atqui, haec ratio suos terminos habet.

primum larva utuntur et semel exponunt. tribus personis uteris, et ter expone. quis competitive in sumptus et efficacia est?

secundo, totum comam in loco pectere, saltem semel pectere habes.

tamen, cum iterum atque iterum pectis comas, quomodo potes efficere ut sit 100% accurate omni tempore locum mutare?

cum "sculpes" iacuit per tabulatum, quomodo potes efficere ut cum paucae ultimae imagines reclinatae sint, 100 constantes erunt?

nullius fideiussor. erunt semper erroribus.

hic error pretii est "expressio".

the "≤8nm" quod a multis in "catalogo" illustratum est hoc tempus valore operies correspondet.

sumptus, efficientia, cede.

in fabricandis xxxiii non solum quaestio technica est, sed etiam proventus oeconomicus. praeter "num fieri potest", considerare etiam debemus "an valet".

duv lithographiae instrumento utens ad 7nm astulas per multiplices expositiones utendo ad superiora loca adiuvet, sed gratuita et lacunaria sunt.

hodie, multi fontes putant post comprehensivam considerationem, etiam cum immersione lithographiae ac multiplicium expositionum, 7nm astularum fabricando esse prope tectum armorum duv lithographiae.

ad progrediendum et 7nm astulas fabricare, vel plusquam 5nm astulas, et 3nm chippis, adhuc opus est euv apparatu lithographiae.

nimis difficile est. aut emere non potes aut praestare non potes.

itane est possibile iter "continuum auto-emendationis" capere et machinam euv lithographiae a te aedificare?

bene, habes audaciam.

euv machina lithographia

quam difficile est facere machinam euv lithographiam?

hoc responsum dedit mihi amicus;

si dixerimus difficultatem factorem "utendi duv apparatus lithographiae ad 7nm chip creandum" est "transeuntes decem mille montes" ergo difficultas factoris "construendi machinam euv lithographiae" est"mons everestus plus quam 10,000 talenta ponderat."

lithographia machina

quare? quantum interesse potest inter machinam lithographiam euv et duv machinam lithographiam cum differentia unius litterae?

nonne tota de lucet, obumbrans, exsculpens aliquas fossas?

sic. de his articulis singillatim loquemur.

primus gradus: "lumen lucere", quam difficile est?

fons lucis duv est solum laser excimerus, qui similis est lucis in chirurgia lasericae usus ad tractandum myopia.

sed lux fons euv est lux quae in terra non primum existit.

an non est? quomodo mittere?

hodierna methodus innititur quasi metalli "pulsandi": stagni donec homines luceant.

hic processus non simplex sed asper, et in tres gradus dividi potest;

primus gradus est liquorem stagni a medio aere defluere.

grana plumbi parva esse debent. tam parva est quam 20 microns in diametro, quae tantundem est cum una cellularum tuarum.

in secundo gradu laser strenuissimus assidue emittebat stillantes globuli stanneos.

esto velox. eadem pila plumbi bis saltem emittebatur, primo sima, secundo vanescit.

percute atomos suos ionize, vehementer emittunt radios iratos, et radios lucis emittunt vis.

tertius gradus est bombardas pergere ac splendere.

manus consistere non possunt. bis 50.000 vicibus continuo emittendum tibi est ut labentem et ionizationem teneat, semperque lumen et sculptura valde stabilis sit.

hoccine facere potes? si id facere potes, ad gradum promovere potes.

secundus gradus: "iacta umbram", quid tam magnum est?

lux cum breviore necem habet ambiguitatem notam: facile absorbetur et fere dispergitur antequam in photoresist opus committitur.

quid facerem? "speculum" dependet.

euv machinis lithographiae currentis instructae sunt multis "speculis", hoc est ponderibus positis, ut euv lux in medio minus absorbetur et ad photorestam tutius perveniat.

quam plana haec "speculi" esse debent?

in technicis verbis: cacumen et vallis subtiliter superficiei figurae sunt 0,12 nanometri, et asperitas superficies 20 picometri est.

translatum in mandarin: si hoc "speculum" ad magnitudinem terrae augeretur, nonnisi tumorem tenuem ac capillum habere posset.

nec mirum aliqui dicunt cum passione huiusmodi "speculi"; potest levissima res in universo homine facta.

nunc, etsi tale speculum aedificare possis, photolithographia tantum incipitur.

tertius campus: "excidere valles", quot montes transire debes?

quomodo ualles et ualles correspondentes tanta subtilitate sculpi possunt?

praeter cultrum acutum, maxime stabilis laborantis ambitus opus est tibi.

asml cubiculum mundissimum sume in exemplum; aer intus indiget ut 10,000 vicibus purior quam extra.

ad hoc efficiendum, apparatum evacuationis saltem statuto 300.000 metrorum cubicorum aeris per hora purgare posse.

praeter aerem, aquam et lucem, quae in ambitu laborantibus adhibentur, necesse est ut ultra-mundum sit et specialem curationem requirat.

principium photolithographiae machinae

"mitte lucem quae non est in terra."

"in levissimo speculo humano umbraculum."

"sculpe aliquas fossas in ambitum ubi etiam aer mundior est 10,000 temporum."

hoc est machinam euv aedificare lithographiae quae nunc est similis aliis uti, et pauci saltem sunt montes ad scandendum.

omg. profundum spiritum tolle.

tamen, adhuc non possum non videre, ubi ascendimus hodie?

futurum

meminisse istius introductionis initio?

nunc iterum custodite, quomodo sentis?

"macula lithographia domestica publice denuntiavit hoc tempus esse obaurationem ≤8nm, solutionis 65nm, genus siccum, necem 193nm, apparatus lithographiae duv".

quid istuc est?

"deducere ≤ 8nm" solum errorem significat cum "pilos pectendi", non campus qui "7nm astulas producere potest".

"resolutio 65nm" significat casum 65nm scalpere.

"arida" significat adhuc "submergi" montem ascendere praecedens.

"machinam lithographiae duv cum necem 193nm" significat everest esse "machinae lithographiae euv tam brevis quam 13.5nm" ad scandendum praemisit.

cur tot montes? quando scandere debemus consummare?

quando vere possumus creare processum 7nm, vel etiam provectiorem machinam lithographiam domesticam, quae cum mundi ambitu contendere potest, nec amplius impelli potest?

verba multa sunt. fortasse etiam aliquos audivisti. exempli gratia:

paucis abhinc annis, quidam impossibile esse dixerunt. "quamquam eas lineamenta dederis, impossibile est machinam photolithographiam aedificare".

diebus illis quidam adhuc longe abest. "potest plus quam decem annos capere, quia aetate provectus mundi asml plus quam decem annos ad hoc iter complendum accipit".

sed mox nonnulli difficile dictu est. "post progressionem asml, quae plus quam decem annos suscepit, cooperatio dozens regionum circum orbem terrarum facta est et cooperatio millium victualium domi militiaeque."

etiam, audivi. sed quisque suas sententias habet, quomodo iudicare possum? ecquid ex aciebus?

hoc anno telephonum mobile est, huawei multa non dixit. sed die 19 septembris, huawei vice praeses et rotating praeses xu zhijun breviter duas sententias in colloquio huawei alio dixerunt;

1. "continens sinarum fabricandi chippis post longum tempus cessabit et solutiones potentiae computandi diuturna providere debemus".

2. "huawei consilium est a promptis processibus fabricandis incipere et in innovatione et emendatione systematica peragere".

quid de "catalogue" ministerii industry ac technologiae informationis? simpliciter exue. vide titulum:

"ductor catalogus promotionis et applicationis primi (set) maioris equipment technical (2024 edition)".

quid est, significat? est breakthrough et discrimine. maxime, breakthroughs saepe permanebit.

quid est promotio? ipsum massa provectus ac efficitur. praeter officinas quae in productionem massae mittuntur, saepe laboratoria provectionis sunt.

quid ergo extra officinam? plusne?

paucis abhinc diebus mexicum visitavi et multas sinenses novas energiae officinas ibi aedificatas vidi;

paucis abhinc diebus, calido inquisitionis "huawei" ascendit et quae infra recensita erat, massam productionis et partus domestice magnae aircraft produxit "c919";

quid prius? the national bureau of statistics annuntiavit executionem oeconomiae nationalis in prima parte anni 2024 . inter eos, collocatio in summa technica industriarum aucta per 10.6% annos in anno, 6.7 cento puncta velocius quam omnia obsideri...

innovatio, emendatio. perge ad breakthroughs ac pergo ad investigationes. latius, uberius.

in historia 7nm chippis, non solum xxxiii et vim computandi, sed etiam technologicam progressionem et ludos competitive.

maior haec mutatio est quae saeculo non accidit.

in hac mutabili condicione semper homines clamantes; scapha decem mille montes transiit.

imo ab non 7nm xxxiii to having 7nm xxxiii. ab duv ad euv. ex novo documento ad novam potestatem computandi.

tota difficilia, omnia possibilia sunt.

sed ultra montes sunt montes.

extra 7nm, sunt 5nm, 3nm, etiam 2nm, 1nm...

extra chips sunt etiam intelligentia artificialis, nova vis, aerospace, machina marina...

quid facerem?

qingzhou raro respondet. mox navigantes deinceps custodiunt.

perge, perge.

benedicite.