berita

한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

menurut berita it house pada tanggal 15 september, kementerian perindustrian dan teknologi informasi mengeluarkan "katalog panduan untuk promosi dan penerapan (set) peralatan teknis utama pertama (edisi 2024)" pada tanggal 9 september, yang mencakup kripton fluorida dalam negeri litografi dalam daftar dokumen (110nm), dan isi mesin litografi argon fluorida (65nm).

peralatan teknis besar pertama tiongkok (set) mengacu pada produk peralatan yang telah mencapai terobosan teknologi besar di tiongkok, memiliki hak kekayaan intelektual, dan belum mencapai kinerja pasar yang signifikan, termasuk peralatan lengkap, sistem inti, dan komponen utama.

it home melampirkan screenshot kedua baris informasi tersebut sebagai berikut:

	diameter wafer	panjang gelombang iluminasi	resolusi	atas ukiran
mesin litografi krypton fluorida (krf).	300 mm2	248nm	≤110nm	≤25nm
mesin litografi argon fluorida (arf).	300 mm2	193nm	≤65nm	≤8nm

baik gas kripton fluorida (krf) maupun argon fluorida (arf) berfungsi sebagai mesin litografi ultraviolet dalam (duv), laser excimer yang menghasilkan sinar ultraviolet dalam.

saat ini, mesin litografi telah melalui lima generasi pengembangan, dari yang paling awal dengan panjang gelombang 436, hingga mesin litografi generasi kedua mulai menggunakan i-line dengan panjang gelombang 365nm, dan laser krf generasi ketiga 248nm. generasi keempat adalah laser duv dengan panjang gelombang 193nm, yang merupakan laser excimer arf.

sumber: ping an sekuritas

mesin litografi sumber laser excimer arf (argon fluoride), panjang gelombang sebenarnya dari sumber cahaya menembus 193nm dan dipersingkat menjadi 134nm, nilai na adalah 1,35, dan node proses tertinggi dapat dicapai pada 7nm.

teknologi perendaman mengacu pada merendam ruang antara lensa dan wafer silikon dalam cairan karena indeks bias cairan lebih besar dari 1, panjang gelombang laser sebenarnya akan sangat berkurang.

akurasi overlay sering disebut sebagai "akurasi tertinggi yang dapat dicapai dengan beberapa eksposur". menurut hubungan antara akurasi overlay dan proses produksi massal 1:3, mesin fotolitografi ini mungkin dapat memproduksi chip secara massal dengan chip tersebut. proses 28nm.

mesin litografi 28 nanometer merupakan garis pemisah antara chip low-end dan mid-end, yang berarti kemandirian industri berbagai produk industri tiongkok seperti ac, mesin cuci, dan mobil dapat menembus blokade yang ditetapkan oleh negara-negara barat dan berproduksi. dan menjual secara mandiri.