समाचारं

अनहुई विश्वविद्यालयस्य दलेन विश्वस्य लघुतमं skyrmion track device unit सज्जीकृतम् अस्ति

2024-07-17

한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

अद्यतने, अनहुई विश्वविद्यालये नूतन-टोपोलॉजिकल-चुम्बकीय-सामग्रीणां स्मृति-यन्त्राणां च डु हाइफेङ्गस्य दलेन विश्वस्य लघुतमं skyrmion ट्रैक-यन्त्र-एककं (track width: 100nm) सज्जीकर्तुं केन्द्रित-आयन-पुञ्ज-सूक्ष्म-नैनो-उपकरण-उपकरण-प्रौद्योगिक्याः उपयोगः कृतः, यत् उच्च-अन्तरिक्ष-समयेन सह मिलित्वा Resolved in -situ Lorentz इलेक्ट्रॉन सूक्ष्मदर्शी प्रौद्योगिकी नैनोसेकेण्ड् विद्युत् स्पन्दनैः चालितस्य 100nm चौड़ाई पटले 80nm चुम्बकीय skyrmions एक-आयामी, स्थिरं, कुशलं च गतिं साकारयति, उच्च-घनत्वस्य, उच्च-गति-विश्वसनीयस्य नवीन-स्थानिक-चुम्बकीयस्य निर्माणस्य आधारं स्थापयति इलेक्ट्रॉनाः इलेक्ट्रॉनिकयन्त्राणि महत्त्वपूर्णं समर्थनं ददति। प्रकृतिसञ्चारपत्रे प्रासंगिकाः शोधपरिणामाः प्रकाशिताः ।

२००९ तमे वर्षे जर्मनवैज्ञानिकाः एकस्मिन् प्रकारे चिराल् धातुचुम्बकीयपदार्थे अ-तुच्छ-टोपोलॉजिकल-गुणयुक्ता चुम्बकीय-संरचनायाः आविष्कारं कृतवन्तः, यस्याः नाम चुम्बकीय-स्काइर्मियनः इति अस्य लघु आकारः, उच्चस्थिरता, धारायाः सुलभनियन्त्रणं च इति लाभाः सन्ति । धाराद्वारा चालितस्य नैनो-पट्टिकायां चुम्बकीय-स्काइर्मियनस्य स्थिरं नियन्त्रणीयं च गतिं प्राप्तुं यन्त्रनिर्माणे मुख्यविषयेषु अन्यतमः अस्ति परन्तु विगत १५ वर्षेषु शोधकार्य्येषु प्रमुखविषयाणां प्रभावी समाधानं न जातम्: यन्त्रस्य विशेषतायाः आकारः अतीव विशालः अस्ति तथा च चुम्बकीय-स्काइर्मियनाः तेषां गतिकाले विक्षिप्ताः भवन्ति

समस्यायाः प्रतिक्रियारूपेण डु हाइफेङ्गस्य दलेन उपकरणसंरचनात्मक-एककानां कृते केन्द्रित-आयन-पुञ्ज-प्रक्रियाकरणं, तत्परता च प्रौद्योगिकी विकसिता, तथा च एकरूपमोटाई, चिकनी-सीमा/ पृष्ठानि, तथा अनाकारस्तरस्य मोटाई 2 nm तः न्यूना ), वर्तमानकाले चौड़ाईयां प्रतिवेदितः लघुतमः आकारः एकः संचरण इलेक्ट्रॉनसूक्ष्मदर्शकः in-situ powering चिपः विकसितः, यः Lorentz transmission electron microscope in-situ powering function इत्यस्य विस्तारं कृतवान् वर्तमाननाडीविस्तारं वर्तमानघनत्वं च नियन्त्र्य, तथा च स्काईर्मियनगतिं स्थिरीकर्तुं पटलसीमायां धारस्थितिचुम्बकीयसंरचनायाः उपयोगेन, 100nm FeGe पटलस्य एकस्य 80nm-आकारस्य चुम्बकीयस्काइर्मियनस्य एकआयामी, स्थिरगतिः प्राप्ता .

प्रयोगात्मकं साक्षात्कारः: उपकरणस्य विशेषता आकारः प्रायः 100nm अस्ति; एते परिणामाः नैनो-पट्टिकासु चुम्बकीय-स्काइर्मियनानाम् उच्च-गति-स्थिर-गति-लक्षणं प्रदर्शयन्ति, येन चुम्बकीय-स्काईर्मियन-आधारित-यन्त्राणां निर्माणस्य आधारः स्थापितः (संवाददाता शि रुइवेन्) २.