nuntium

한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

praeterito biduo, multi retiarii nuntium tractaverunt de novo machinae lithographiae domesticae argonis fluoride a ministerio industry et information technologia detecto caelum. nonnulli etiam "machinae lithographiae" sculpturae ≤ 8nm viderunt, ridiculum est putare hanc machinam 8nm lithographiam esse.

re vera, iam inde a die 20 iunii, ministerium industry ac information technologia dimisit "guidance catalogue pro promotione et applicatione primi (set) maioris technical equipment (2024 edition)" , krypton fluoride nuntiata est. inde die 9 septembris, ministerium industriae ac technologiae notitiae notitiam rexerunt:

krypton fluoride machinula lithographia est actu vetus machina lithographia krf cum 248nm luminis principium, cum resolutione ≤110nm et subtiliter obauratae ≤25nm; machina argonis fluoride lithographia est machina lithographia arf cum fonte lucis 193nm. etiam nota ut machina lithographia duv), sed una detecta adhuc machina lithographia sicca duv, non magis provectior immersio duv apparatus lithographiae (etiam notae machinae lithographiae arfi).

iudicans ex parametris officialiter detectis, resolutio machinae lithographiae duv est ≤65nm et ipsarum accuratio ≤8nm est. quamvis emendatus sit comparatus ad priorem ssa600 machinam lithographiae shanghai microelectronics (est 90nm resolutio), non tamen quatenus 28nm astulas producere potest, nedum ad 8nm et 7nm astulas fabricandi. multi reticulati directe confundunt accurationem laminis cum gradu nodi processus photolithographiae fabricandi.

accuratio photolithographiae maxime pendet ex resolutione machinae photolithographiae. si resolutio 65nm est, tunc processus nodi in una detectione attingi potest probabiliter circa 65nm.

deaurabis accurate refert ad alignment accurationem inter singulas tabulas photographicas. ut omnes novimus, vestibulum processus xxxiii actu percipere et acervus multorum stratorum photolithographiae exemplaria singillatim. postquam photolithographia unius tabulae exemplaris perficitur, photolithographia sequentis tabulati exemplaris in summo continuari debet, et duae tabulae accurate perpendendae sunt ad chip, quod confici potest.

quot ergo processus nanometri perfici possunt cum hac 65nm photolithographia solutionis et subtiliter ≤8nm obduces? quis gradus machinae lithographiae valet pro currenti asml? parametri asml machinae lithographiae infra comparare potes:

twinscan xt: 1460k ab asml in secunda quarta parte 2015 portatum habet photolithographiam resolutionem ≤65nm, sed ipsarum accuratio altior est (<5nm). etsi propositio huius machinae lithographiae domesticae duv etiam ≤65nm est, et 65nm processum facere vel astulas magis provectiores facere potest, obduces accurationem erroris huius machinae lithographiae domesticae maior est, quae etiam ad gradum cedit relative humilis. inferior erit.

aliis verbis, machina lithographia domestica duv perficienda etiam minor est quam xt:1460k apparatus lithographiae quae asml novem annos uit. si ulterius inspicias, re vera resolutio machinae lithographiae aridae duv xt:1450 ab asml in 2006 57nm deductae pervenerit, et ipsarum accuratio 7nm est. spatium technologiae actualis inter machinam lithographiam domesticam perficiendam et asml plus quam xviii annos habet.

etsi lithographia resolutio 65nm multiplicium expositionum utitur, fieri potest ut processus nodis provectioribus perficiatur, sed error superpositionis amplificationis limitatur ab ipsarum accuratione.

secundum peritum internum ex lithographia maiore fabrica, 65nm resolutio arf machina lithographia, iuncta cum bono opc (propinquitas correctionis optica) algorithmus, ad 55nm processum promoveri potest.

"fenestra moderatio obductio (argumentum accurationis) pro una detectio est 1/4 ad 1/5 lineae latitudinis, itaque spuma cum 55nm lineae latitudinis requirit saltem 11nm deauratium fabricari. etsi operies subtilitatem machina lithographia ≤8nm est, sed hoc solum vexillum officinarum est. varii processus in lagano processu ipsi errores afferent, et vestis totius scalpelli fabricandi minor erit quam vexillum officinarum, ergo deauratura subtiliter 8nm actu. productum incidit in circiter 11-12nm esse, ideo una expositio nonnisi ad gradum 55-65nm pervenire potest.

"si plures detectiones adhibentur, sicut detectio duplex, obauratio requisita in medium secabitur. quare, exsistentia unius expositi gradus 55nm, si duplex detectio facienda est, saltem obductio 55-5-2". = 5.5nm exquiritur.

ita in summa, si vis plures expositiones facere, tunc accuratio operies satis alta esse debet. id est, error operiens satis exiguus debet esse.

exempli gratia, industria prima massa productio 28nm processus basically factum est utens provecta asml nxt: 1970 (immersio duv).

cum massa productio processus 28nm domesticorum serius sit, magis provectior asml nxt: 1980 ad massam productionem 28nm adhibitus est. etsi resolutio adhuc ≤38nm est, operculum accuratio adhuc <2.5nm attigit, quae etiam this laganum artifices permittit ut multiplices expositiones per hoc exemplum perficiat, ut fabricatio 7nm processus efficiat. exempli gratia, processus tsmc primae generationis 7nm usus asml nxt factus est: 1980 per plures expositiones. scilicet, multae expositiones signanter augebunt impensas.

quam ob rem civitates foederatae et belgii initio limitaverunt exportationem machinarum lithographiae in sinas ad nxt:1980 et supra, et postea nxt:1970 et nxt:1980 inductae sunt, quae multae expositiones ad processum progressum facultatum consequendam, ad lithographiam machinis educendis. ad continentem.

in summa, 65nm solutionis domesticae duv apparatus lithographiae hoc tempore expositae debet esse iustus emendatus versio prioris 90nm solutionis machinae lithographiae domesticae. hoc modo adhiberi potest ad processum maturitatis chip fabricandi necessitates 55-65nm tantum abest ut requisitis occurrentibus ad 28um processum fabricandum astulas omnes expectet. utique, cum priore provectissima machina lithographia domestica cum 90nm resolutione comparata, nova 65nm resolutio machina lithographia domestica saltem aliquos progressus fecit. attamen adhuc necesse est ut plane conscii simus inter nos et extraneos gradus progressionis et non temere eu.

ad fabricatores machinae domesticae lithographiae, adhuc multae quaestiones technicae sunt quae solvendae sunt in processu mutandi ex sicco duv ad immersionem duv. scire debes quod circa 2010s, asml machinis lithographiae immersionem duv (prima machina massa-producta immersionem duv lithgraphia dominatum constituit.

lectio related: