2024-07-16
한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina
IT Domus nuntiavit die 16 Iulii in media Coreanica Media The Elec nuntiavit societatis Coreanae semiconductorem Jusung Engineering Meridianum stratum atomicum depositionis (ALD) technologiae nuper elaborasse.Necessitas extremae ultraviolacae lithographiae (EUV) reducere potest gradus ad processum progressum producendum chippis.
IT Home Nota: Lithographia extrema ultraviolacea (EUV), quae etiam ultraviolacea lithographia notissima est, lithographia technica est quae extremae ultraviolae lucis aequalitatibus utitur.
Chul Joo Hwang, praeses Chow Cantae Engineering, dixit currentem expansionem DRAM et logicae astularum suum terminum pervenisse, ergo necesse est hanc quaestionem superare transistoribus quasi NAND positis.
Si industria semiconductoris transistores minora molimina retrahere vult, una solutio est ACERVUS transistorum.
Cum positis maior fit, postulationem machinarum AL etiam augebit, dixit Hwang. Productio III-V et IGZO semiconductorum instrumentum quoque ALD requirit.
Colligunt et ordinant notitias recentissimas nuntios et liberam fac omnibus reprimendam.
