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IT House ha riferito il 16 luglio che il media coreano The Elec ha riferito che la società sudcoreana di semiconduttori Jusung Engineering ha recentemente sviluppato la tecnologia di deposizione di strati atomici (ALD).Può ridurre la necessità di fasi del processo di litografia ultravioletta estrema (EUV) nella produzione di chip di processo avanzati.

IT Home Nota: La litografia ultravioletta estrema (EUV), nota anche come litografia ultravioletta, è una tecnologia litografica che utilizza lunghezze d'onda della luce ultravioletta estrema. È attualmente utilizzata in processi avanzati inferiori a 7 nanometri e sarà ampiamente utilizzata nel 2020. .

Chul Joo Hwang, presidente di Chow Sing Engineering, ha affermato che l'attuale espansione di DRAM e chip logici ha raggiunto il suo limite, quindi è necessario superare questo problema impilando transistor come NAND.

Se l'industria dei semiconduttori vuole ridurre i transistor a dimensioni più piccole, una soluzione è impilarli. Una delle prove è che si prevede che le apparecchiature ultraviolette profonde (DUV) verranno utilizzate per produrre DRAM 3D.

Man mano che l'impilamento diventa più importante, aumenterà anche la domanda di macchine ALD, ha affermato Hwang. Anche la produzione di semiconduttori III-V e IGZO richiede apparecchiature ALD.